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産業用iPS細胞分化誘導培養装置 HiD4×4 Reactor取扱企業
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 温度管理方法 | 直動伝達方法 | 温度調節範囲 | 温度調節精度 | 最大上下動振幅 | 最大翼速度 | 温度設定 | 上下動設定 | 構成 ホットプレート | 構成 冷却用チラー | 撹拌モータ | 撹拌翼 | 培養槽寸法・重量 | 培養槽全容量 | 使用周囲温度範囲 | 外形寸法 | 重量 | 定格電源 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
HiD4-4 |
要見積もり |
ホットプレート+冷却用チラー加熱冷却方式 (PID制御) 過昇温防止機能付 |
リニアシャフトドライブノンシール式 |
室温＋5~20℃ (通常37℃設定) |
±0.3℃ (37℃) |
40mm |
150mm/s |
デジタル設定,記録出力1~5V |
タッチパネル入力,記録出力1~10V |
235W×4 |
冷却式、450W、HFC R-404A |
最大出力800W |
標準：VM200 |
内径94/87×深さ110mm・約300g |
0.5L |
10~35℃ |
本体 (HiD4×4) ：W680×H914×D480mm |
本体 (HiD4×4) ：約70kg |
AC100V、50/60Hz |
