静止型リフロー装置 RDT-250Ⅱ
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この製品について

小型ながら高い加熱性能で試作、加熱テスト、評価、生産まで対応可能。進化したニューモデル登場です。

■概要・リフローはんだ付けのシミュレーション、少量多品種の生産に手軽に使える装置です。
・プリント基板を移動させずに全工程を処理するので、プロファイル測定と目視観察を同時に行うことができます。
・プロファイル条件作成が簡単になりました。
・ヒーター構成の見直しで低消費電力を実現。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
静止型リフロー装置 RDT-250Ⅱ

取扱企業
株式会社マルコム

カテゴリ

半導体製造

リフロー装置

加工・工作機器

リフロー炉

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静止型リフロー装置 RDT-250Ⅱ 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	対象基板	装置寸法	加熱方式	冷却方式	電源	外部ガス	炉内酸素濃度 (窒素使用時)	基板トレイ	上面加熱	下面加熱	温風加熱	温度精度	均熱エリア	測定温度	測定点数	窒素供給機能	制御用専用ソフト	装置重量	オプション
	RDT-250Ⅱ	要見積もり	250W × 330Lmm以下高さ : キャリアバー下限設定時 : 下5mm上28mm、上限設定時 : 下31mm上2mm ※基板底面からの寸法	823W × 890D × 1,414H (本体) 、1,575 (モニター含む)	上面 : 熱風・遠赤外線輻射併用下面 : 遠赤外線輻射 (オプション)	外部ガス (窒素または空気) 導入による (排気ダンパ連動) 冷却用流量調整弁付き	3相 200V 50/60Hz 23.4kW/線電流 : 約68A	0.3~0.5MPaドライエア又は窒素ガス炉内100リットル/min (MAX) 、冷却室200リットル/min (MAX)	最低100ppm	ネット式またはキャリア式 (いづれか選択)	熱風・遠赤外線ヒータ : 約15kW (500W×30ブロック) ※基準モジュールに対する偏差設定可能	遠赤外線ヒータ : 約2.4kW (400W × 6)	約6kW (2kW×2、1kW×2)	常温~80℃ : ±3℃ 80℃~330℃ : ±2℃ 300℃~400℃ : ±3℃	中央部 200W×200D	常温 ~ 400℃	手動モード測定時7ポイント自動モード測定時CNT+6ポイント	流量調整弁 : 100L/min	RDT-250ⅡS (内臓PCにインストール済) (外部のPCでプロファイル作成・データ解析可) 対応OS : Windows10、Windows11	約200kg	・酸素濃度計・ガス混合器