フォトマスク洗浄装置　MC-150 series ARTS
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社の対応状況

返答率

100.0%

返答時間

87.8時間

無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

■次世代・先端半導体に対応したグローバルニッチトップ製品の開発を推進半導体デバイスの微細化が進んでおり、これに対応した装置の開発を進めています。また、性能向上と経済性を両立させ、地球環境に配慮した商品を提供するための新技術の開発に取り組んでいます。前工程から後工程まで、特徴ある装置でお客様のご要望に幅広くお応えしています。

■凍結洗浄機能を搭載6025対応枚葉式フォトマスク洗浄装置次世代EUV フォトマスクからレガシー製品まで対応した枚葉式洗浄装置です。当社が実用化した凍結洗浄機能を搭載し、微小異物の除去性能とパターンダメージフリーを両立。パターンの微細化が進むフォトマスクの歩留まり向上に貢献します。

特長
■凍結洗浄機能超純水が凍る過程で膨張する特性を利用し、選択的に異物を除去する洗浄技術により、パターンダメージフリーを実現しました。

■各種フォトマスクに対応各フォトマスク用に最適化された洗浄技術を用いる事で、次世代EUVやNILを含めた各フォトマスクに対応。マスクブランクス洗浄も対応します。

■様々なプロセスモジュールを選択可能凍結洗浄機能に加え、端面洗浄機能等の各種処理モジュールをオプションで搭載可能。お客様の多様なご要望に対応します。

■SMIF対応ロードポートSMIFPOD (Single, Multi) に対応

■凍結洗浄工程当社独自の洗浄処理チャンバー

■フォトマスク洗浄技術露光原版であるフォトマスクの配線パターンに1か所でも欠陥があると、露光されたすべてのウェーハにその欠陥が転写されてしまいます。そのためフォトマスクの製造現場では、洗浄工程を繰り返すことで欠陥の原因となる異物を除去しています。しかし洗浄力の強い方法を適用するとフォトマスクの配線パターンに欠陥が生じるパターンダメージの問題があり、これまでは微小な異物の除去に限界がありました。

当社では、パターンにダメージを与えずに超微小な異物を除去可能な凍結洗浄技術を新たに実用化しました。水が凍る過程で膨張する特性を利用することで、配線パターンから選択的に異物を浮かせ、排出することが可能です。また、水で洗浄するため、薬液コストの削減や環境負荷の低減にも寄与します。