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返答率
100.0%
平均返答時間
366.4時間
シリーズ
酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置取扱企業
ジャパンクリエイト株式会社カテゴリ
利用シーン
化学業界用 / 電子・電気機器業界用もっと見る
CVD装置の製品29点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 基板サイズ | 成膜プロセス | プラズマソース | 基板加熱温度 | 真空排気 | 圧力制御 | 制御操作 | データロギング | 基板搬送 | オプション |
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酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置 |
要見積もり | 最大φ12インチ |
SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si TEOS/TMOS系：SiO2 |
CCP型 | 最高300℃ (基板表面) |
低真空プロセス：MBP+DP 高真空プロセス：TMP+DP |
APC制御 |
制御：PLC 操作：タッチパネルまたはPC |
外部メモリまたはPC | 真空搬送ロボット |
300℃以上の高温プロセス、発光分析システム、排ガス処理装置、ガス検知器、シリンダーキャビネット など |
