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レチクル対応 洗浄装置 EUVPODフルオート洗浄システムSR-EUV (REN) -SR-EUV (REN)
レチクル対応 洗浄装置 EUVPODフルオート洗浄システムSR-EUV (REN) -ヒューグルエレクトロニクス株式会社

レチクル対応 洗浄装置 EUVPODフルオート洗浄システムSR-EUV (REN)
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この製品について

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUVPODのための全自動洗浄装置 (特許取得済) です。InnerPOD、OuterPODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。完全無人稼動も可能です。ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。

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    レチクル対応 洗浄装置 EUVPODフルオート洗浄システムSR-EUV (REN)

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レチクル対応 洗浄装置 EUVPODフルオート洗浄システムSR-EUV (REN) 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 装置本体
レチクル対応 洗浄装置 EUVPODフルオート洗浄システムSR-EUV (REN) -品番-SR-EUV (REN)

SR-EUV (REN)

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会社概要

ヒューグルエレクトロニクス株式会社は1971年に設立した、半導体関連製品のメーカーです。 容器洗浄装置、非接触に数ミクロンの異物を除去できる超音波ドライクリーナー、非接触で静電気の除電を行えるイオナイザーなどの半導体や...

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  • 本社所在地: 東京都

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