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薄膜成長用酸化物基板 LSAT-LSATｰASｰ10N
薄膜成長用酸化物基板 LSAT-株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 LSAT
株式会社信光社

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この製品について

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています。

エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。弊社は長年の技術の蓄積により、結晶育成 (一部結晶は除く) から加工まで自社内で一貫生産しており、高精度な加工技術により、加工歪層のない高品質な結晶基板表面に仕上げております。 誘電体、超伝導、化合物半導体などのエピタキシャル成長に最適な酸化物結晶基板を提供しております。

■LSAT

LSATは1/2格子定数が0.3868 nmと高温超伝導体や他の高機能酸化物とマッチングがよく、LaAlO3のようにツインが入ることもなく、CZ法により育成できますのでSrTiO3よりも大型で結晶性がよいものが得られます。ぜひ皆様の研究にお役立て下さい。

■物性

・組成 (LaAlO3) 0.3- (SrAl0.5Ta0.5O3) 0.7 ・結晶系 立方晶 ・結晶構造 ペロブスカイト構造 ・格子定数 a=0.7736 nm (a/2=0.3868 nm) ・融点 1,840 ℃ ・密度 6.79 g/cm3 (20 ℃) ・誘電率 22 (27℃,1 MHz)

■オプション

・OFF基板 ・ブレイク溝付き基板

  • シリーズ

    薄膜成長用酸化物基板 LSAT

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薄膜成長用酸化物基板 LSAT 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 面方位 (公差：±0.5°) 研磨 表面粗さ 表面処理 オリフラ
薄膜成長用酸化物基板 LSAT-品番-LSATｰASｰ10N

LSATｰASｰ10N

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会社概要

株式会社信光社は1947年に設立された、各種酸化物単結晶製品の製造・販売をしている会社です。 サファイアやルチルなどの酸化物単結晶製品、光アイソレータやルチルプリズムなどの光通信デバイスの製造だけでなく、ファイバーレー...

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