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薄膜成長用酸化物基板 ネオジガレート取扱企業
株式会社信光社カテゴリ
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | サイズ | 面方位 (公差：±0.5°) | 研磨 | 表面粗さ | 平坦度 (λ=632.8 nm) | 表面処理 | オリフラ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
NGOｰASｰ10N |
要見積もり |
外形公差±0.1mm 厚み公差±0.05mm：10×10×0.5 t |
(100) |
片面研磨 |
Ra≦1.0 nm |
≦ λ |
標準 |
(001) |
