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薄膜成長用酸化物基板 酸化チタン (ルチル) -TOーASー10N
薄膜成長用酸化物基板 酸化チタン (ルチル) -株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 酸化チタン (ルチル)
株式会社信光社



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この製品について

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています。

エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。弊社は長年の技術の蓄積により、結晶育成 (一部結晶は除く) から加工まで自社内で一貫生産しており、高精度な加工技術により、加工歪層のない高品質な結晶基板表面に仕上げております。 誘電体、超伝導、化合物半導体などのエピタキシャル成長に最適な酸化物結晶基板を提供しております。

■酸化チタン (ルチル)

ルチルは複屈折性を用いた光学材料用途以外にも、エピタキシャル成長用基板としても注目されています。弊社は、ベルヌーイ法による結晶成長から、基板加工まで一貫生産を行っております。ルチル結晶としては、大きさ、品質、生産量とも世界トップレベルを誇っています。Nbをドープし導電性を持たせたNb:TiO2基板や原子レベルで平坦なSTEP基板もご提供しております。様々なエピタキシャル成長に最適なルチル基板を皆様のご研究にお役立て下さい。

■物性

・組成 TiO2 ・結晶系 正方晶 ・結晶構造 ルチル型 ・格子定数 a=0.45935 nm c=0.29580 nm ・融点 1,840 ℃ ・育成方法 ベルヌーイ法 ・密度 4.252 g/cm3 (20 ℃) ・誘電率 113 (1 MHz) ・熱膨張係数 (30~400℃) (a軸方向) 7.81×10^-6/℃ (c軸方向) 10.1×10^-6/℃ ・バンドギャップ 3.0 eV ・屈折率 (at 706.5 nm) no=2.5490 ne=2.8226

■オプション

・STEP基板 ・OFF基板 ・ブレイク溝付き基板

  • シリーズ

    薄膜成長用酸化物基板 酸化チタン (ルチル)

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薄膜成長用酸化物基板 酸化チタン (ルチル) 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 純度 抵抗率 (Ω・cm) 面方位 (公差:±0.5°) サイズ 研磨 表面粗さ 平坦度 (λ=632.8 nm) 表面処理 ドープ オリフラ
薄膜成長用酸化物基板 酸化チタン (ルチル) -品番-TOーASー10N

TOーASー10N

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外形公差±0.1mm、厚み公差±0.05mm:10×10×0.5t

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Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm

≦λ

標準

Non

(001)

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社信光社は1947年に設立された、各種酸化物単結晶製品の製造・販売をしている会社です。 サファイアやルチルなどの酸化物単結晶製品、光アイソレータやルチルプリズムなどの光通信デバイスの製造だけでなく、ファイバーレー...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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