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薄膜成長用酸化物基板 チタン酸ストロンチウム-STーASー10S
薄膜成長用酸化物基板 チタン酸ストロンチウム-株式会社信光社

薄膜成長用酸化物基板 チタン酸ストロンチウム
株式会社信光社



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この製品について

■弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています。

エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。弊社は長年の技術の蓄積により、結晶育成 (一部結晶は除く) から加工まで自社内で一貫生産しており、高精度な加工技術により、加工歪層のない高品質な結晶基板表面に仕上げております。 誘電体、超伝導、化合物半導体などのエピタキシャル成長に最適な酸化物結晶基板を提供しております。

■チタン酸ストロンチウム

SrTiO3は代表的なペロブスカイト構造をもつ基板として、強誘電体や超伝導体薄膜などの基板として広く使われております。弊社では、ベルヌーイ法による結晶成長から、基板加工まで一貫生産を行っており、品質、生産量とも世界トップレベルを誇っております。Nbをドープし導電性を持たせたNb:SrTiO3基板や原子レベルで平坦なSTEP基板もご提供しております。皆様のご研究にお役立て下さい。

■物性

・組成 SrTiO3 ・結晶系 立方晶 ・空間群 Pm3m (Perovskite) ・格子定数 a=0.3905 nm ・融点 2,080 ℃ ・育成法 ベルヌーイ法 ・密度 5.122 g/cm3 (20 ℃) ・誘電率 310 (27℃,1 MHz) ・熱膨張係数 11.1×10^-6/℃ (室温~1,000℃) ・相転移温度 110 K (正方晶⇔立方晶) ・屈折率 2.407 (at 589 nm)

■オプション

・STEP基板 ・OFF基板 ・ブレイク溝付き基板

  • シリーズ

    薄膜成長用酸化物基板 チタン酸ストロンチウム

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薄膜成長用酸化物基板 チタン酸ストロンチウム 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 純度 抵抗率 (Ω・cm) 面方位 (公差:±0.5°) サイズ 研磨 表面粗さ 平坦度 (λ=632.8 nm) 表面処理 ドープ オリフラ
薄膜成長用酸化物基板 チタン酸ストロンチウム-品番-STーASー10S

STーASー10S

要見積もり

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外形公差±0.1mm、厚み公差±0.05mm:10×10×0.5t

片面

Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm

≦λ

STEP

Non

(010)

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社信光社は1947年に設立された、各種酸化物単結晶製品の製造・販売をしている会社です。 サファイアやルチルなどの酸化物単結晶製品、光アイソレータやルチルプリズムなどの光通信デバイスの製造だけでなく、ファイバーレー...

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  • 本社所在地: 神奈川県
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