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工程
洗浄
メーカー
RENA
型番
Revolution取扱企業
株式会社インターテック販売カテゴリ
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半導体洗浄装置の製品69点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 工程 | メーカー |
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要見積もり | 洗浄 | RENA |
半導体洗浄装置の中でこの商品と同じ値をもつ製品
洗浄方式がウェットの製品
半導体洗浄装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#ウエハ洗浄 #酸化膜除去 #有機物除去 #金属汚染除去 #パーティクル除去 #ドライプロセス #ウエットプロセス #クリーン化管理 #高純度薬液洗浄方式
ウェット ドライ メガソニック スプレー処理形態
バッチ型 シングルウエハ型 連続搬送型特殊機能
ケミカル循環型 ドライインアウト型 プラズマ支援型対応サイズ インチ
0 - 4 4 - 8 8 - 12装置寸法 mm
0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 2,000 2,000 - 2,500 2,500 - 3,500本体重量 kg
0 - 50 100 - 500電源 V
0 - 100 100 - 200 200 - 250
