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工程
洗浄
メーカー
RENA
仕様 プロセスアプリケーション
洗浄、乾燥
仕様 ワーク
FOUP、FOSB
仕様 処理数
ターンテーブルあたり12個のFOUPまたはFOSB
仕様 最大回転数
150rpm
仕様 筐体材質
白色PP、ステンレス枠
仕様 タンク材質
PVDF (ブースタータンクとHot DI供給)
仕様 寸法
・D: 2,000 × W: 1,850 × H: 2,700mm ・筐体を二分割すると高さは2,250mm
仕様 用力 電気
AC400V、50/60Hz、24kW、35A
仕様 用力 温水供給
25L/分、60~70℃
仕様 用力 排気量
800m3/h、500Pa
仕様 用力 CDA
6バール
仕様 用力 N2
3バール
仕様 用力 騒音レベル
~65dbA
型番
Solanoボックスクリーナー取扱企業
株式会社インターテック販売カテゴリ
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半導体洗浄装置の製品69点中、注目ランキング上位6点
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商品画像 | 価格 (税抜) | 工程 | メーカー | 仕様 プロセスアプリケーション | 仕様 ワーク | 仕様 処理数 | 仕様 最大回転数 | 仕様 筐体材質 | 仕様 タンク材質 | 仕様 寸法 | 仕様 用力 電気 | 仕様 用力 温水供給 | 仕様 用力 排気量 | 仕様 用力 CDA | 仕様 用力 N2 | 仕様 用力 騒音レベル |
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要見積もり | 洗浄 | RENA | 洗浄、乾燥 | FOUP、FOSB | ターンテーブルあたり12個のFOUPまたはFOSB | 150rpm | 白色PP、ステンレス枠 | PVDF (ブースタータンクとHot DI供給) |
・D: 2,000 × W: 1,850 × H: 2,700mm ・筐体を二分割すると高さは2,250mm |
AC400V、50/60Hz、24kW、35A | 25L/分、60~70℃ | 800m3/h、500Pa | 6バール | 3バール | ~65dbA |
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洗浄方式がウェットの製品
半導体洗浄装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#ウエハ洗浄 #酸化膜除去 #有機物除去 #金属汚染除去 #パーティクル除去 #ドライプロセス #ウエットプロセス #クリーン化管理 #高純度薬液洗浄方式
ウェット ドライ メガソニック スプレー処理形態
バッチ型 シングルウエハ型 連続搬送型特殊機能
ケミカル循環型 ドライインアウト型 プラズマ支援型対応サイズ インチ
0 - 4 4 - 8 8 - 12装置寸法 mm
0 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 2,000 2,000 - 2,500 2,500 - 3,500本体重量 kg
0 - 50 100 - 500電源 V
0 - 100 100 - 200 200 - 250