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この製品について

■IC・メモリー・液晶・太陽電池等の半導体製造に欠かせないガス

・当社は1970年代にはじめて半導体グレードの高純度NH3を開発して以来、総合化学メーカーとして培ったガスの合成・精製技術を応用して多種多様な超高純度ガスを製造しております。これらのガスは、成膜 (CVD、ALD) 、エッチング、ドーピング、エピタキシャル成長など、様々な半導体製造プロセスに用いられます。 ・スマートフォン・ディスプレイ・太陽電池といった生活に身近な電子機器には、IC・メモリ・パワー半導体など数多くの半導体製品が搭載されております。 ・私たちは高純度・高品質のガスを安定供給することで人々の豊かな生活に貢献しております。

  • 型番

    N2O 亜酸化窒素

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IC・メモリー・液晶・太陽電池等に 機能マテリアル 半導体用ガス N2O 亜酸化窒素の性能表

商品画像 価格 (税抜) グレード 純度 容器・充填量 容器弁
要見積もり RESEARCH
SEG
>99.995%
>99.999%
10L - 7.5kg ( 4.3m3 )
47L - 30kg ( 17.2m3 )
440L - 300kg ( 172.2m3 )
360L×2本 - 500kg ( 287.1m3 )
S (B) ・W22・14・OR

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使用用途

#ウエハ製造 #フォトリソグラフィー #エッチング #薄膜形成 #ドーピング #CMP研磨 #半導体製造 #精密機器製造

厚さ μm

150 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 600 600 - 1,200 1,200 - 1,400

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会社概要

住友精化株式会社は、吸水性樹脂事業や機能マテリアル事業を展開する化学企業です。 吸水性樹脂事業として、紙おむつや通信ケーブルの素材の提供を行う一方、機能マテリアル事業としては、フラッシュメモリーや太陽電池で用いるガスを...

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  • 本社所在地: 大阪府

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