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リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) RF-110N2MK2-株式会社日本パルス技術研究所

全型番で同じ値の指標

加熱部 ゾーン数

1

加熱部 奥行き

210mm

加熱部 幅

210mm

加熱部 入口高さ

20mm

加熱 方式

遠赤外線 (IR)

加熱 温度制御

PID制御

加熱 最高温度

300℃

加熱 時間

各セグメント0~99分59秒。最大31セグメント

コンベヤ

無し (バッチ式)

冷却

自然空冷

電源

単相100/120/220V 1.5kW 50/60Hz

窒素供給量

20~30ℓ/回 (1回は2分30秒として) 、窒素の供給は加熱開始から終了までの間。

外形寸法

(W) 340× (D) 590× (H) 210mm

重量

約16kg

この製品について

RF-110N2MK2は手動式遠赤外線リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) です。200×200mmまでのプリント基板を両面リフローはんだ付けできます。少量多品種SMT基板の生産や、実験・試作に最適です。窒素 (N2) に対応しており、はんだの酸化を抑えることができます。1ゾーンですがプログラム可能な温度調節器を使用しているので、プリヒート/リフローといった、途中で温度を変える設定もできます。

■特長

・遠赤外線 (IR) 1ゾーン加熱です。プログラム可能な温度調節器により、温度プロファイルを設定できます。 ・200×200mmの基板まで、接着剤なしに両面リフローはんだ付けできます。 ・世界で最も小型で安価な卓上窒素 (N2) リフローはんだ付け装置です。

  • 型番

    RF-110N2MK2

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リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) RF-110N2MK2 RF-110N2MK2の性能表

商品画像 価格 (税抜) 加熱部 ゾーン数 加熱部 奥行き 加熱部 幅 加熱部 入口高さ 加熱 方式 加熱 温度制御 加熱 最高温度 加熱 時間 コンベヤ 冷却 電源 窒素供給量 外形寸法 重量
リフローはんだ付け装置 (リフロー炉) RF-110N2MK2-品番-RF-110N2MK2 要見積もり 1 210mm 210mm 20mm 遠赤外線 (IR) PID制御 300℃ 各セグメント0~99分59秒。最大31セグメント 無し (バッチ式) 自然空冷 単相100/120/220V 1.5kW 50/60Hz 20~30ℓ/回 (1回は2分30秒として) 、窒素の供給は加熱開始から終了までの間。 (W) 340× (D) 590× (H) 210mm 約16kg

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設定温度 ℃

0 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500

電源 V

10 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 800

消費電力 W

0 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,500 1,500 - 2,500

重量 kg

0 - 10 10 - 50 50 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000

はんだ容量 kg

0 - 10 10 - 30 30 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社日本パルス技術研究所は、1974年に設立された電子機器の製造販売やセキュリティ事業を行っている企業です。 はんだ付け関連装置はコンパクトなサイズから大型のものまで取り扱っているほか、データ漏洩を防止するため...

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  • 本社所在地: 群馬県
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