D-light DL-1000 | マスクレス露光装置 DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能マスクレス露光装置 D-light DL-1000
株式会社ピーエムティー

全型番で同じ値の指標

基板

Max. □300mmウェハ

露光方式

スキャン露光方式

光源

LED (光源波長：λ=385nm)

重ね合わせ精度

±0.5µm以内

露光能力

400mm2/min (標準露光時)

分解能

標準露光時：0.5µm/pix、ファイン露光時：0.05µm/pix (x10) , 0.10µm/pix (x5) ,0.125µm/pix (x4) , 0.25µm/pix (x5)

本体寸法

W2,000 × D1,300 × H2,000mm

重量

約1,300kg

使用環境

温度：22±1℃、湿度：50±10％RH (結露無き事)

電源

AC100V (3A)

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この製品について

マスクレス露光装置 D-Light DL-1000 は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Device) と呼ばれる表示素子の高速時間変調により、256階調のグレースケール露光が可能。複雑な三次元構造もフォトマスク無しで実現できます。

■DMDによる直接描画DMDは、10数µm角の微小鏡面を格子状に配列した表示素子。鏡面にLEDを光源とする光を照射し、一つひとつのミラーを傾ける (ON/OFF制御する) ことにより、パターンの画像データを基板上に直接描画します。通常はON/OFFの2値状態を切り替えることで露光を行いますが、高速なマイクロミラーの時間変調を行うことにより、256階調の三次元グレースケール露光が可能になりました。

■超高精細露光モードを搭載ピクセル補完技術を応用した超高精細露光モードを標準搭載。ミクロンオーダーで露光結果のジャギを解消できます。スループット時間は長くなりますが、斜線や曲線のデータ再現性が飛躍的に向上します。タクトと精度、目的に応じてご使用いただけます。

型番
D-light DL-1000

シリーズ
マスクレス露光装置 DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能マスクレス露光装置 D-light DL-1000

取扱企業
株式会社ピーエムティー

カテゴリ

加工・工作機器

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半導体製造

半導体露光装置

半導体製造

露光装置

半導体製造

電子ビーム描画装置

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マスクレス露光装置 DMDの高速時間変調で256階調のグレースケール露光が可能マスクレス露光装置 D-light DL-1000 D-light DL-1000の性能表

商品画像	価格 (税抜)	基板	露光方式	光源	重ね合わせ精度	露光能力	分解能	本体寸法	重量	使用環境	電源
	要見積もり	Max. □300mmウェハ	スキャン露光方式	LED (光源波長：λ=385nm)	±0.5µm以内	400mm2/min (標準露光時)	標準露光時：0.5µm/pix、ファイン露光時：0.05µm/pix (x10) , 0.10µm/pix (x5) ,0.125µm/pix (x4) , 0.25µm/pix (x5)	W2,000 × D1,300 × H2,000mm	約1,300kg	温度：22±1℃、湿度：50±10％RH (結露無き事)	AC100V (3A)