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マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F-株式会社ピーエムティー

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返答率

100.0%

返答時間

437.3時間

全型番で同じ値の指標

基板

Max. □300mmウェハ

露光方式

スキャン露光方式

光源

LED (光源波長:λ=385nm)

重ね合わせ精度

±0.5µm以内

露光能力

400mm2/min (標準露光時)

分解能

標準露光時:0.5µm/pix、ファイン露光時:0.05µm/pix (x10) , 0.10µm/pix (x5) ,0.125µm/pix (x4) , 0.25µm/pix (x5)

本体寸法

W2,000 × D1,300 × H2,000mm

重量

約1,300kg

使用環境

温度:22±1℃、湿度:50±10%RH (結露無き事)

電源

AC100V (3A)

この製品について

マスクレス露光装置 ME-120F は、露光によって半導体ウェハなどにパターンを描画する装置です。DMD (Digital Micromirror Device) と呼ばれる表示素子で直接描画を行うため、フォトマスクの製作に必要とされていた莫大な費用と多くの時間が不要になり、従来のフォトリソグラフィプロセスにおける課題が解消されます。

■DMDによる直接描画

DMDは、10数µm角の微小な鏡を格子状に配列した表示素子。鏡面にLEDを光源とする光を照射し、一つひとつのミラーを傾ける (ON/OFF制御する) ことにより、2値化されたパターンの画像データを基板上に直接描画します。フォトマスク製作にかかる費用と時間が不要になるため、半導体デバイスの試作を効率化することができます。

■ ファインモード搭載でジャギを改善

露光結果のジャギを改善するため、標準露光モードに加え、ピクセル補完技術を応用したファイン露光モードを標準搭載。スループット時間は長くなりますが、斜線や曲線のデータ再現性が飛躍的に向上します。タクトと精度、目的に応じてご使用いただけます。

  • 型番

    ME-120F

企業レビュー 4.5

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2025年4月15日にレビュー済み

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マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F ME-120Fの性能表

商品画像 価格 (税抜) 基板 露光方式 光源 重ね合わせ精度 露光能力 分解能 本体寸法 重量 使用環境 電源
マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減 マスクレス露光装置 ME-120F-品番-ME-120F 要見積もり Max. □300mmウェハ スキャン露光方式 LED (光源波長:λ=385nm) ±0.5µm以内 400mm2/min (標準露光時) 標準露光時:0.5µm/pix、ファイン露光時:0.05µm/pix (x10) , 0.10µm/pix (x5) ,0.125µm/pix (x4) , 0.25µm/pix (x5) W2,000 × D1,300 × H2,000mm 約1,300kg 温度:22±1℃、湿度:50±10%RH (結露無き事) AC100V (3A)

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使用用途

#半導体製造 #微細加工 #フォトリソグラフィ #研究開発 #MEMS #バイオテクノロジー #3次元露光 #水晶発振子製造 #タッチパネル #ディスプレイ

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

437.3時間


企業レビュー

4.5

会社概要

株式会社ピーエムティーは、主に精密部品の受託加工や機械装置の設計・製造などを行っています。

1991年に半導体製造装置の専門商社として創業し、その後、産学官連携によって習得した超精密軸制御技術をコアとし...

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  • 本社所在地: 福岡県

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