UVL-3 | UV露光装置 UVL-3
壺坂電機株式会社

全型番で同じ値の指標

光源

超高圧水銀ランプ 250W

放射照度 (mW/cm2)

常用:20 - 22 最大:24

照度面 (WxH) (mm)

照射範囲:φ155 有効:φ113 mm

照度ムラ (± %)

有効面内にて5

表示・操作

本体操作外部通信制御

露光時間

0.1 - 99.9 (最大99時間)

試料台

固定式・平面微調機構付き

試料サイズ (mm x mm)

100 x 100

通信I/F

コネクター:USB 2.0 Type-B 通信:仮想COMポートによるUART

電源電圧

AC100V 50/60Hz

消費電力 (VA)

450

動作環境

温度:5 - 35[℃] 湿度:80[％]以下但し、結露なきこと

寸法 (WxHxD) (mm)

422.5mm (W) ×781mm (H) ×357mm (D) 突起物を除く

重量 (kg)

全1種類の型番を一覧でみる

この製品について

■特長・フォトリソグラフィ工程における簡易露光焼付装置
・卓上型・一体型のため省スペース
・カラー液晶と十字キーを装備
・照射時間を正確に制御

■操作手順①電源を入れてランプを点灯
②ランプ安定後に、放射照度を調整・登録
③露光時間を設定 (放射照度×時間で露光量を表示) 
④露光　時間露光の場合は自動でシャッター開閉　手動露光の場合は、露光量を見ながら手動でシャッター開閉

拡張機能
■【オプション】・放射照度の変更 (20以下に変更する) 
・露光マスク対応 (マスクホルダー及び試料トレーの追加) 

■【カスタム】・試料寸法の変更 (照射範囲も変更されるためカスタム対応) 

型番
UVL-3

シリーズ
UV露光装置 UVL-3

取扱企業
壺坂電機株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

FPD露光装置

半導体製造

半導体露光装置

半導体製造

露光装置

半導体製造

ステッパ

この商品に関する問題を報告する

230人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

FPD露光装置注目ランキング

FPD露光装置の製品26点中、注目ランキング上位6点

マスクレス露光装置 PALET 電動ステージモデル DDB-701-DL

ネオアーク株式会社

5.0 企業レビュー

530人以上が見ています

最新の閲覧: 3時間前

マスクレス露光装置 PALET 手動ステージモデル DDB-701-MS

ネオアーク株式会社

5.0 企業レビュー

530人以上が見ています

最新の閲覧: 5時間前

ロールtoロールウエットプロセス装置

進和工業株式会社

380人以上が見ています

最新の閲覧: 8時間前

マスクレス露光装置 PALET 大型ステージモデル DDB-701-DL4

ネオアーク株式会社

5.0 企業レビュー

370人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

マスクレス露光装置 DMDによる直接描画で半導体デバイス試作のサイクルタイムを削減マスクレス露光装置 ME-120F

株式会社ピーエムティー

4.5 企業レビュー

340人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

マスクレス露光装置 3次元形状レーザ露光装置

ネオアーク株式会社

5.0 企業レビュー

330人以上が見ています

最新の閲覧: 1時間前

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています

見積もりの使い方

UV露光装置 UVL-3 UVL-3の性能表

商品画像	価格 (税抜)	光源	放射照度 (mW/cm2)	照度面 (WxH) (mm)	照度ムラ (± %)	表示・操作	露光時間	試料台	試料サイズ (mm x mm)	通信I/F	電源電圧	消費電力 (VA)	動作環境	寸法 (WxHxD) (mm)	重量 (kg)
	要見積もり	超高圧水銀ランプ 250W	常用:20 - 22 最大:24	照射範囲:φ155 有効:φ113 mm	有効面内にて5	本体操作外部通信制御	0.1 - 99.9 (最大99時間)	固定式・平面微調機構付き	100 x 100	コネクター:USB 2.0 Type-B 通信:仮想COMポートによるUART	AC100V 50/60Hz	450	温度:5 - 35[℃] 湿度:80[％]以下但し、結露なきこと	422.5mm (W) ×781mm (H) ×357mm (D) 突起物を除く	30