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CVDプロセス/CVDはChemical Vapor Deposition の略称です (気相からの化学蒸着) 。このプロセスでは、ガス混合物が高温においてコーティングされる品物の表面上を流れます。 品物の表面とガスが化学反応によって蒸着する為、それによって緻密で、層厚の均一なすばらしい密着性をもった層がその品物の表面に析出します。

  • 型番

    表面改質装置

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使用用途

#半導体製造 #太陽電池製造 #MEMS製造 #ナノ材料生成 #ダイヤモンド生成 #絶縁膜形成 #保護膜形成 #透明導電膜形成 #カーボンナノチューブ #高硬度薄膜 #センサー #電子デバイス

成膜方式

熱CVD APCVD PECVD MOCVD HWCVD

反応器構造

縦型バッチ 横型バッチ シングルウェハ シャワーヘッド型 回転円盤型

加熱方式

ホットウォール コールドウォール ランプ加熱 誘導加熱 マイクロ波加熱 抵抗加熱

原料供給方式

直接ガス供給 液体気化供給 固体昇華供給 バブリング供給

成膜温度 ℃

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会社概要

1965年の創設以来、工業炉専門メーカーとして技術を積み上げてまいりました。 特に1974年に自社開発した加圧冷却方式の真空熱処理炉は発売以来順調に実績を上げており、真空炉以外の各種工業炉においても高い評価をいただいてお...

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