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分析・観察・評価装置 UHV対応レーザー顕微鏡装置-北野精機株式会社

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返答率

100.0%

返答時間

26.8時間

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到達真空度

≦1.0E-6Pa

試料サイズ

10mm

倍率

250~1,250×

視野

1,150~230μm

基板加熱温度

Max500℃

ガスライン

混合1系統

この製品について

■特徴

本装置は、走査型レーザー顕微鏡を使用し、試料を真空中や高温・ガス雰囲気など様々な環境において挙動変化を観る観察・検査装置です。トランスファーポートを設けてありますので成膜装置との連結により試料を成膜後暴露することなく観察が可能になります。顕微鏡の解像度は0.3μmに達し焦点深度も深く三次元形状測定も可能です。

■構成

・走査型レーザー顕微鏡 ・水冷付きUHVチャンバー ・TMP&RP排気ユニット ・加熱機構付きマニピュレーター ・ガス混合パネル (IN2系OUT1系)

  • 型番

    UHV対応レーザー顕微鏡装置

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分析・観察・評価装置 UHV対応レーザー顕微鏡装置 UHV対応レーザー顕微鏡装置の性能表

商品画像 価格 (税抜) 到達真空度 試料サイズ 倍率 視野 基板加熱温度 ガスライン
分析・観察・評価装置 UHV対応レーザー顕微鏡装置-品番-UHV対応レーザー顕微鏡装置 要見積もり ≦1.0E-6Pa 10mm 250~1,250× 1,150~230μm Max500℃ 混合1系統

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  • 本社所在地: 東京都
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