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フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-ナガセケムテックス株式会社

ナガセケムテックス株式会社の対応状況

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剥離性能 ポジ除去

剥離性能 残渣除去

AL腐食性

粘度 mPa・s (25℃)

法規 消防法

この製品について

超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造の世界において、迅速な開発力が必要とされる剥離剤・エッチャント (感光性材料) やレジスト剥離剤などの各種製品を製造しています。またプロセス管理の面においてもお客様への提案力に優れた実績を有するなど、エレクトロニクス業界の発展に貢献しています。

  • 型番

    N-342

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フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤 N-342の性能表

商品画像 価格 (税抜) 用途 液状 使用条件 ℃/分 リンス液 剥離性能 ポジ除去 剥離性能 残渣除去 AL腐食性 粘度 mPa・s (25℃) 法規 消防法 法規 PRTR
フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤-品番-N-342 要見積もり FPD 水系 常温~50/1~5 10 非該当 該当

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92.9時間

会社概要

ナガセケムテックス株式会社は、1970年に設立された樹脂製品メーカーです。 帯電防止剤の製造販売、透明電極形成材料の製造販売、ペースト添加剤の製造販売、フォトリソグラフィ用材料の製造販売、金属イオン除去剤の製造販売、接...

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  • 本社所在地: 大阪府

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