株式会社倉田技研

装置製造
・超高温炉・黒鉛化炉
・真空雰囲気炉
・ホットプレス
・真空溶解炉
・薄膜装置・CVD装置
・新素材開発装置　他

1981年 10月（昭和56年） 個人経営にて倉田技研発足
1982年 5 月（昭和57年） 国立研究開発法人産業技術総合研究所（旧 通産省工業技術院大阪工業技術試験所）殿の技術指導により
SCC炉開発(3000℃)
1983年 1月（昭和58年） 国立研究開発法人産業技術総合研究所（旧 通産省工業技術院大阪工業技術試験所）殿の技術指導により
SCC-U炉開発(3300℃)
1983年 3月（昭和58年） プラズマCVD装置納入
1983年 11月（昭和58年） 光ファイバー用加熱炉納入
1984年 11月（昭和59年） エピタキシャル炉納入
1985年 4月（昭和60年） レ一ザー核融合用球状ガラス加熱炉納入
1985年 5月（昭和60年） 大型超高温炉(SCC炉）納入
1985年 5月（昭和60年） lOOTON真空ホットプレス納入
1985年 5月（昭和60年） 個人経営より法人に改組。株式会社倉田技研設立（資本金800万円）
1986年 4月（昭和61年） セラミックス用真空加圧焼結炉納入
1987年 9月（昭和62年） 国立研究開発法人産業技術総合研究所（旧 通産省工業技術院大阪工業技術試験所）殿の技術指導により
SCC-E炉開発(3500℃)
1988年 10月（昭和63年） 小型熱CVD装置納入
1988年 11月（昭和63年） 200TON真空ホットプレス納入
1989年 2月（平成 1年） 超伝導用CO2レーザー装置納入
1989年 7月（平成 1年） 500TON真空ホットプレス納入
1990年 3月（平成 2年） 超高温引張、曲げ試験装置納入（3000℃）
1991年 1月（平成 3年） プラズマアークCVD装置納入
1991年 1月（平成 3年） 真空理工（株）殿と共同で超高温熱画像装置納入
1991年 2月（平成 3年） 大型熱CVD装置納入
1992年 3月（平成 4年） 超伝導用スパッター装置納入
1993年 4月（平成5年） 連続巻取式プラズマCVD装置納入
1995年 2月（平成7年） コロナ放電装置納入
1995年10月（平成7年） 大型真空亜鉛回収装置納入
1996年 3月（平成8年） 資本金を10 0 0万円に増資
1997年 8月（平成9年） 日新電機(株)殿と共同でDLCコーティング装置納入
1998年 3月（平成10年） (株)メックス殿と共同でプラズマ実験装置納入
1999年 2月（平成11年） 大型薄膜多目的装置納入
2000年 4月（平成12年） 高真空蒸着装置納入
2000年12月（平成12年） 誘導加熱溶解炉納入
2001年 9月（平成13年） アルミ複合溶解炉納入
2002年 7月（平成14年） カーボンナノチューブ半連続炉納入
2002年 7月（平成14年） カーボンナノチュープ熱CVD炉納入
2005年 3月（平成17年） 連続巻取式成膜装置納入
2005年 9月（平成17年） 大型水封式炭化炉納入
2006年 4月（平成18年） 排ガス燃焼装置付炭化炉納入
2007年 6月（平成19年） 大型横丸型超高温炉納入
2007年12月（平成19年） 社長交替
2008年 4月（平成20年） 急速冷却式誘導加熱溶解炉納入
2009年 4月（平成21年） ー方向凝固溶解炉納入
2010年 2月（平成22年） 急速加熱超高温炉納入
2011年11月（平成23年） 1.5 TON超高温ホットプレス納入
2014年12月（平成26年） 拡散接合用真空ホットプレス納入
2016年 4月（平成28年） セラミックス接着用空圧式真空ホットプレス納入
2018年 9月（平成30年） 150TONX２軸真空ホットプレス納入
2020年4月（令和2年） 大阪工場から竜王工場に移転

官庁関係
産業技術総合研究所（九州、関西、筑波、臨海）、宇宙航空研究開発機構、島根県産業技術センター、岩手県工業技術センター、物質材料研究機構、信州大学、奈良先端科学技術大学院大学、東京大学、福井大学、大分大学、九州大学、東京工業大学、北海道大学
民間関係
（株）アルバック、（株）アライドマテリアル、アルプスアルパイン（株）、大阪ガス（株）、（株）カネカ、昭和電工（株）、信越化学工業（株）、住友電気工業（株）、東洋炭素（株）、東レ（株）、東海カーボン（株）、日本製紙（株）