株式会社日本シード研究所

■概要 ・タングステンヒーターを構成した縦型真空熱処理装置です。 ・最高到達温度1,800℃、常用温度1,600℃での処理が可能です。 ・試料...

• 加工・工作機器

• 真空炉

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜に加え、イオ...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜、抵抗加熱蒸着などの多用...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、金属膜、有機膜を作製することができます。 ・直感的に操作が行える手動装置の為、簡易的な...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・抵抗加熱式の蒸着装置となっており、高真空領域で単結晶膜を作製することができます。 ・基板上に平滑な金の (111) 面を形成す...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・超伝導薄膜、金属薄膜、誘電体薄膜を自由な組み合わせで連続成膜することができます。 ・スパッタ成膜法を活かした高品質・高機...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・容量結合型プラズマ方式のCVD装置です。 ・加熱機構を備えており、任意の温度に基板を加熱して成膜することが可能です。 ・直感...

• 加工・工作機器

• プラズマCVD装置

■概要 ・コールドウォール式の熱CVD装置です。最高800℃の加熱制御が行えます。 ・成膜基板およびその近傍を加熱する構造の為、原料を効...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・シースヒーターを構成した真空熱処理装置です。 ・100～300℃での処理が可能です。 ・ボルトやフランジなどの小部品、Oリングの...

• 加工・工作機器

• 真空炉

■概要 ・低温、高真空環境での試験を行う為のスペースチャンバです。 ・航空宇宙関係の素材研究、機器の研究に適しています。 ・炉内に...

• ジェネレータ・発生器

• 真空発生器

■概要 ・試料を液体窒素に浸し、極低温環境での試験を目的とした環境試験装置です。 ・素材研究、極低温下に曝される機器の試験に適して...

• 試験機器

• 環境試験機

■概要 ・高真空環境での試験を行う為のスペースチャンバです。 ・航空宇宙関係の素材研究、機器の研究に適しています。 ・直感的に操作...

• ジェネレータ・発生器

• 真空発生器

■概要 ・高真空環境での試験を行う為のスペースチャンバです。 ・航空宇宙関係の素材研究、機器の研究に適しています。 ・排気速度 4,00...

• ジェネレータ・発生器

• 真空発生器

■概要 ・ターボ分子ポンプ、油回転ポンプを組み込んだ手動排気装置です。 ・ステンレス製フレームを採用しており、液体による錆や磁場に...

• 浄化設備・装置

• 排気装置

■概要 ・ターボ分子ポンプ、スクロールポンプをコンパクトに組み込んだ自動排気装置です。 ・真空容器・試料の排気系、リークテストの補...

• 浄化設備・装置

• 排気装置

■概要 ・スクロールポンプ、シュラウド式コールドトラップをコンパクトに組み込んだ自動排気装置です。ターボ分子ポンプなどの高真空排...

• 浄化設備・装置

• 排気装置

■概要 ・金属ヒーターを構成した最高温度 250℃での処理が可能な乾燥・ベーキング装置です。 ・特徴として、高真空排気ユニットの接続を...

• 熱源

• ヒーター

■概要 ・プラズマ環境下における試料の特性を試験、観測する評価装置です。 ・高真空排気系を備え、Arプラズマを基本とし、N2、O2ガスを...

• 熱源

• ヒーター

■概要 ・超伝導転移端センサ― (TES) に適合するチタン、金の積層膜を作製することができます。 ・蒸着方式となっており、電子銃、抵抗加...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・斜入射レイアウトのカソードを備えたスパッタ成膜装置です。 ・最大3式のカソードを構成することができ、試料交換室、トランス...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・プレーナーカソードを備えた縦型スパッタ成膜装置です。 ・長尺物や立体物、処理数量の多い試料に対して均一性の高い成膜が行え...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・超伝導トンネル接合に適合するニオブ、アルミまたこれらの化合物膜を連続成膜することができます。 ・トランスファーロッドによ...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・ホットウォール式の熱CVD装置です。最高900℃の加熱制御が行えます。 ・石英ガラス等の管状炉になっています。 ・化合物半導体の...

• 半導体製造

• 半導体製造装置

■概要 ・モリブデンヒーターを構成した横型真空熱処理装置です。 ・最高加熱温度1,000℃での処理が可能です。 ・試料は付属の専用台車に...

• 加工・工作機器

• 真空炉

■概要 ・タングステンヒーターを構成した縦型真空熱処理装置です。 ・最高到達温度2,500℃、常用温度2,400℃での処理が可能です。 ・試料...

• 加工・工作機器

• 真空炉

■概要 ・核融合実験における中性粒子分析器 (NPA) の駆動装置や駆動型プローブ、ボロメータ等の計測機器の治具、駆動装置などに弊社製品...