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アルバック販売のイオン注入装置5製品中の注目ランキング
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■概要 低加速・高濃度対応のイオン注入装置です。 ■用途 パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス ■特長 ・枚葉式 ・薄Wafer対応 ■非質量分離機...
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■概要 Max2,400KeVまで対応可能な高エネルギーのイオン注入装置です。 ■用途 パワーデバイス等の薄型基板プロセス、IGBTプロセス ■特長 ・枚葉式 ・薄Wafer...
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■概要 中電流型イオン注入装置SOPHI-200/260は、最新技術を搭載した8、6、5インチのイオン注入装置です。サンプリングをお受けしています。 ■用途 ・半導体...
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■概要 高温ESCを搭載したSiC量産用高エネルギーイオン注入装置です。 ■用途 SiC向けイオン注入装置 ■特長 ・自動連続高温処理注入が可能 ・1価イオンで350k...
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■概要 中電流イオン注入装置IMX-3500は、最大エネルギ200kV、ウェーハサイズ8インチまでの、イオン注入装置で、大学等での研究開発に最適です。 ■特長 ・最...