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#光学部品製造

#表面改質

#機能性材料研究

成膜方式

蒸着法

構成環境

真空型

低圧型

プラズマ利用有無

プラズマ援用型

基板搬送方式

回転基板型

到達圧力 Pa

0 - 0.01

設置面積 m²

5 - 10

所要電力 kVA

10 - 15

真空槽 mm

500 - 800

基板バイアス V

0 - 5,000

ナノテックの成膜装置

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ナノテック株式会社

ICF成膜装置

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