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使用用途
#アニール
#ガス雰囲気処理
#セラミックス処理
#乾燥
#焼結
#熱処理試験
加熱方式
赤外線
加熱対象
セラミック
プラスチック
構造
真空
アルゴン
温度管理
高温
最高温度 ℃
100 - 700
700 - 1,100
1,100 - 1,200
1,200 - 1,300
1,300 - 1,400
1,400 - 1,500
1,600 - 1,700
1,700 - 1,800
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■概要 SiCなど高価な試料やその他高融点材料の小片試料をスポット加熱による高い反射効率で、超高温領域1,800℃まで昇温可能な卓上型超高...
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■概要 赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...
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最新の閲覧: 55分前
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■概要 赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...
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■概要 赤外線ランプ加熱でお客様のニーズにお応えします。赤外線ゴールドイメージ炉は研究開発や生産装置としてさまざまな分野でご利用...
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■概要 1,800℃まで高速1分で昇温。コンパクトで1,800℃まで昇温可能な赤外線ゴールドイメージ炉です。ゾーンメルティングやSicパワーデバ...
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■概要 本装置は、試料寸法50mm角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm角までの加熱装置として、卓上型ラ...
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■概要 小サンプルの研究開発に最適。高速加熱・高速冷却、クリーン加熱が行えます。 自在な雰囲気下で加熱する事が可能で温度コントロ...
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■概要 冷却水を使わない卓上型ランプ加熱装置。冷却は空冷ファン採用なので壁コンセントさえあれば直ちに加熱が出来ます。 ■用途 ・ウ...
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■概要 太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。QHCシリーズは赤外線ゴールドイメージ炉と温度コントローラを組合せ、さらに石英の...
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■概要 太陽電池から化合物半導体等のプロセス開発に。VHCシリーズはQHCシリーズの機能に加えて真空排気系とピラニ真空計が搭載されてい...
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