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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050-MILA-5050
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050-アルバック販売株式会社

熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050
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■概要

本装置は、試料寸法50mm角までの熱処理を可能とした卓上型ランプ加熱装置です。 試料寸法20mm角までの加熱装置として、卓上型ランプ加熱装置MILA-5000シリーズを発売以来、多くのお客様にご愛用いただいておりますが、「もう少し大きい試料の熱処理がしたい」というお客様のご要望にお応えし、加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体にしたコンパクトなボディはそのままに、50mm角までの熱処理を可能といたしました。

■用途

1. Si ウエハ、化合物ウエハの高速加熱 2. 光CVDの基板加熱などのエレクトロニクス材料の高速加熱 3. ガラス基板、セラミックス、複合材料などの熱処理 4. 熱サイクル試験 5. 金属材料の焼鈍 6. コーティング膜の耐熱評価 7. 有機材料、樹脂類の加熱、乾燥

■特長

1. 最大W 50mm × L 50mmサイズまでの試料の熱処理が可能 2. 最高使用温度は1,200℃ 3. 加熱炉、チャンバ、温度制御器を一体化した卓上型 4. Cold Wall構造による急速加熱/冷却とクリーン加熱が可能 5. 温度レシピはUSB接続したパソコンで簡単入力 6. 加熱中の温度データをパソコン画面に表示可能 (テキストファイルとして保存も可能)

  • シリーズ

    熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050

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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050 品番1件

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商品画像 品番 価格 (税抜) 温度範囲 試料寸法 加熱雰囲気 加熱速度 温度分布
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 卓上型ランプ加熱装置 MILA-5050-品番-MILA-5050

MILA-5050

要見積もり

室温~1,200℃

角50またはΦ50 × t5 (mm)

真空中、各種ガスフロー中

50℃/s

1%以内 (1,000℃時)

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使用用途

#アニール #ガス雰囲気処理 #セラミックス処理 #乾燥 #焼結 #焼鈍 #焼入 #脱脂 #熱処理試験 #雰囲気制御 #溶解

最高温度 ℃

100 - 700 700 - 1,100 1,100 - 1,200 1,200 - 1,300 1,300 - 1,400 1,400 - 1,500 1,500 - 1,600 1,600 - 1,700 1,700 - 1,800

炉内容積 L

0 - 5 5 - 10

温度分布

0 - 3 3 - 6 6 - 10

電源電圧

AC100V AC110V AC200V AC220V AC240V AC380V AC400V

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アルバック販売株式会社は、1970年に設立された、真空機器関連の専門商社です。 株式会社アルバック（神奈川県）のグループ会社の1社であり、アルバック社の真空機器の国内販売を担います。販売先は、大手メーカーや官公庁・大学...

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  • 本社所在地: 東京都

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