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ナガセケムテックスの光酸発生剤

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7 点の製品

ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 2層リフトオフプロセス用下層材料 BLXシリーズ

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めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な開発力が必要とされて...


ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤

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超微細化する半導体デバイスや、高精細・高機能化が進むフラットパネルディスプレイ。めまぐるしく進展する半導体やフラットパネル製造の世界において、迅速...

5種類の品番

N-300-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
N-327-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
N-342-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
N-530-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤
N-530HS-フォトリソグラフィ用材料 レジスト剥離剤

ナガセケムテックス株式会社

フォトリソグラフィ用材料 (フォトレジスト) 単層リフトオフプロセス用フォトレジスト NPR9700シリーズ

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めまぐるしく進展する昨今の超微細半導体やフラットパネル製造の世界において、その製造プロセスも多様化が進み、適用可能材料の迅速な開発力が必要とされて...


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