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4 点の製品
株式会社マイクロフェーズ
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連続処理による生産量の大幅向上 ■目的 当社が考案した量産用連続CVD処理方式です。十分長い反応管に処理する試料を縦列に並べて置き、...
株式会社マイクロフェーズ
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ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあ...
株式会社マイクロフェーズ
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レーザー描画によるパターン成膜が可能 ■概要 ・市販のファイバーレーザー加工機の試料室に、反応性ガス (炭化水素ガスやアンモニアガ...
株式会社マイクロフェーズ
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炭化水素ガス (CH4やC2H2) を用いたCVD法で触媒基板 (Ni、Cuなど) にグラフェン膜を成長するには、 基板の急冷が重要要素の一つと言われ...
マイクロフェーズのプラズマCVD装置4製品中の注目ランキング
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