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誘導結合型

マイクロフェーズのプラズマCVD装置

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1 点の製品

株式会社マイクロフェーズ

CVD装置 RFプラズマアシストCVD装置 MPCVD-Plasma

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100.0% 返答率

61.4時間 返答時間

ガスのイオン化や前駆体の分解を促進 ■概要 ・横型管状炉熱CVD装置の上流側に、高周波誘導プラズマを発生させることにより、入力ガスあ...


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