CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム-CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム
CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム-タツモ株式会社

CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム
タツモ株式会社



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この製品について

メタルCMP工程で使用される粉体状の酸化剤 (APS) に対応した装置です。オンサイトで粉体の溶解、水溶液の濃度調整、CMPへの 供給が行えます。

■製品特徴

・粉体溶解機能付きドラムキャビネット。 ・供給装置は New MX2000またはiSIS1200Jがベースとなります。 ・複数台のCMP装置への集中供給が可能です。 ・タッチパネルによる運転操作、各種設定、計器類モニター。 ・アラーム履歴、原液ドラムバーコード管理、運転データロギングなど監視機能。 ・手動操作、自動洗浄などメンテナンス機能。 ・濃度計、フィルター搭載。 ・粉体容器サイズ変更など各種カスタマイズに対応しています。 ・付帯ユニット例として、バルブボックス、電源盤、監視盤などをラインナップしています。

  • シリーズ

    CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム

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CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム 品番1件

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CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム

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のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

タツモ株式会社は、半導体製造装置や液晶製造装置などを取り扱っている企業です。 電子機能部品の製造などを目的として1972年に会社を設立しています。設立以降、1980年に全自動レジスト塗布装置、1987年にウェーハマーキ...

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  • 本社所在地: 岡山県
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