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CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム-CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム
CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム-タツモ株式会社

CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム
タツモ株式会社

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この製品について

メタルCMP工程で使用される粉体状の酸化剤 (APS) に対応した装置です。オンサイトで粉体の溶解、水溶液の濃度調整、CMPへの 供給が行えます。

■製品特徴

・粉体溶解機能付きドラムキャビネット。 ・供給装置は New MX2000またはiSIS1200Jがベースとなります。 ・複数台のCMP装置への集中供給が可能です。 ・タッチパネルによる運転操作、各種設定、計器類モニター。 ・アラーム履歴、原液ドラムバーコード管理、運転データロギングなど監視機能。 ・手動操作、自動洗浄などメンテナンス機能。 ・濃度計、フィルター搭載。 ・粉体容器サイズ変更など各種カスタマイズに対応しています。 ・付帯ユニット例として、バルブボックス、電源盤、監視盤などをラインナップしています。

  • シリーズ

    CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム

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CMPスラリー供給システム 粉体酸化剤 (APS) 溶解・供給システム 品番1件

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会社概要

タツモ株式会社は、半導体製造装置や液晶製造装置などを取り扱っている企業です。 電子機能部品の製造などを目的として1972年に会社を設立しています。設立以降、1980年に全自動レジスト塗布装置、1987年にウェーハマーキ...

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  • 本社所在地: 岡山県

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