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この製品について

半導体工程における「不純物添加」に使用される、イオン注入材料をご提供いたします。当社で取り扱っているイオン注入材料はガス材料と個体材料があります。 当社の提供する濃縮三フッ化化ホウ素は、半導体に使用される11Bを、>99.8% (天然のホウ素では、11Bは約81%しか含まれていません) まで濃縮した製品であり、イオン注入工程において高いスループットと生産効率を高めます。また、シャロードープ材料として、四フッ化ゲルマニウムもご提供しております。

  • シリーズ

    半導体材料 イオン注入材料

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半導体材料 イオン注入材料 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 化学式 純度

ガス材料 濃縮三弗化硼素

要見積もり 11BF3 4N

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

ヤマナカアドバンスマテリアル株式会社は、半導体材料、光ファイバー材料及び太陽電池材料の製造及び販売、受託合成・精製などを主な事業内容とする企業です。

1995年に設立され、2021年の商号変更で現在のヤ...

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  • 本社所在地: 京都府
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