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膜厚分布測定装置FiDiCa® Hシリーズ 高分解能モデル FDC-H1510-FDC-H1510
膜厚分布測定装置FiDiCa® Hシリーズ 高分解能モデル FDC-H1510-JFEテクノリサーチ株式会社

膜厚分布測定装置FiDiCa® Hシリーズ 高分解能モデル FDC-H1510
JFEテクノリサーチ株式会社



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この製品について

■膜厚分布を非接触で高速・高精度に測定・可視化

・半導体やフィルム、液膜などの膜厚分布を非接触で高速・高精度にマッピングできる、2次元分光干渉膜厚計 ・50nm~800μmまで、幅広い膜厚 (薄膜、厚膜、極厚膜) レンジの測定に対応 ・分光干渉法を用いた高い測定精度 ・独自アルゴリズムを用い、100万点~400万点の測定データを数分で高速演算 ・オフラインの卓上装置から、インライン機までカスタマイズ可能 ・多層膜測定にも対応

■光干渉を利用した膜厚測定とは

光干渉を利用した膜厚測定とは、測定対象の表面と裏面の反射光間で発生する干渉の分光強度 (スペクトル) から膜厚値を求める半導体やフィルム業界ではスターンダードな手法です。FiDiCa®では豊富なラインナップで、50nm~800μmの膜厚が測定可能です。 具体例として ・半導体の場合:シリコンウェーハ上の酸化膜やレジスト等の厚み。また各種ウェーハそのものの厚み管理が可能です。面の膜厚情報により、厚みが管理値内に入っているかだけでなく、厚みの傾向や局所的な欠陥などが検出可能です。 ・フィルムの場合:フィルム原反の厚みムラだけでなく、その上のコーティングや多層測定も可能です。 (材質、層構造によります) 面の膜厚情報により、スジ状の欠陥や幅方向のムラなど、従来の点の膜厚計では不可能であった検査が可能です。 ・その他の事例:電子部品や半導体材料、油膜、液膜、接着剤など、厚み管理が課題の幅広いアプリケーションに利用されております。

■特長

・6インチウェーハの全面測定可能 ・サンプル全面測定と局所的な厚さを高分解能 (約5μm) で測定可能 ・卓上に設置出来るコンパクト設計

■主な用途

デバイスパターン上の膜厚分布測定 等

  • シリーズ

    膜厚分布測定装置FiDiCa® Hシリーズ 高分解能モデル FDC-H1510

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膜厚分布測定装置FiDiCa® Hシリーズ 高分解能モデル FDC-H1510 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 計測膜厚範囲 測定サイズ 測定点数 空間分解能 測定速度 繰り返し再現性 装置サイズ
膜厚分布測定装置FiDiCa® Hシリーズ 高分解能モデル FDC-H1510-品番-FDC-H1510

FDC-H1510

要見積もり 100nm~10μm
※材質、条件によります。
局所測定:約3mm角
全面測定:約150mm
(6インチウェーハ)
約20万点 約5μm 局所測定:約30秒
全面測定:約10分
※材質、条件によります。
3σ<1.0nm
※校正された厚さ1μmのSiウェーハ上のSiO2膜にて。
W500×D620×H280mm

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

お客様の技術課題解決に、JFEテクノリサーチの分析、評価、調査、解析技術を組み合わせたワンストップサービスで支援いたします。

ナノ領域から大型構造物まで幅広い対象において、最新の分析・試験設備を用い、信...

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