全てのカテゴリ

閲覧履歴

膜厚分布測定装置FiDiCa® Sシリーズ 標準モデル-FDC-S□□□□
膜厚分布測定装置FiDiCa® Sシリーズ 標準モデル-JFEテクノリサーチ株式会社

膜厚分布測定装置FiDiCa® Sシリーズ 標準モデル
JFEテクノリサーチ株式会社



無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

■膜厚分布を非接触で高速・高精度に測定・可視化

・半導体やフィルム、液膜などの膜厚分布を非接触で高速・高精度にマッピングできる、2次元分光干渉膜厚計 ・50nm~800μmまで、幅広い膜厚 (薄膜、厚膜、極厚膜) レンジの測定に対応 ・分光干渉法を用いた高い測定精度 ・独自アルゴリズムを用い、100万点~400万点の測定データを数分で高速演算 ・オフラインの卓上装置から、インライン機までカスタマイズ可能 ・多層膜測定にも対応

■光干渉を利用した膜厚測定とは

光干渉を利用した膜厚測定とは、測定対象の表面と裏面の反射光間で発生する干渉の分光強度 (スペクトル) から膜厚値を求める半導体やフィルム業界ではスターンダードな手法です。FiDiCa®では豊富なラインナップで、50nm~800μmの膜厚が測定可能です。 具体例として ・半導体の場合:シリコンウェーハ上の酸化膜やレジスト等の厚み。また各種ウェーハそのものの厚み管理が可能です。面の膜厚情報により、厚みが管理値内に入っているかだけでなく、厚みの傾向や局所的な欠陥などが検出可能です。 ・フィルムの場合:フィルム原反の厚みムラだけでなく、その上のコーティングや多層測定も可能です。 (材質、層構造によります) 面の膜厚情報により、スジ状の欠陥や幅方向のムラなど、従来の点の膜厚計では不可能であった検査が可能です。 ・その他の事例:電子部品や半導体材料、油膜、液膜、接着剤など、厚み管理が課題の幅広いアプリケーションに利用されております。

■特長

・100万点~400万点を2分以内で高速測定・膜厚計算 ・豊富なラインナップで多様なアプリケーションに適用可能 ・研究開発から欠陥検査まで適用可能

■主な用途

・薄膜モデル:SiO2膜、スパッタ膜、レジスト、液膜、油膜、コーティング膜 ・厚膜モデル:各種ウェーハ、PETフィルム、その他フィルム、ガラス等 ・極厚膜モデル:各種ウェーハ、バルクウェーハ、フィルム、ガラス等

  • シリーズ

    膜厚分布測定装置FiDiCa® Sシリーズ 標準モデル

この製品を共有する


60人以上が見ています


無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

膜厚計注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています


膜厚分布測定装置FiDiCa® Sシリーズ 標準モデル 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 計測膜厚範囲 測定サイズ 測定点数 空間分解能 測定速度 繰り返し再現性 装置サイズ
膜厚分布測定装置FiDiCa® Sシリーズ 標準モデル-品番-FDC-S□□□□

FDC-S□□□□

要見積もり

50nm~20μm (薄膜モデル)
1μm~100μm (厚膜モデル)
20μm~800μm (極厚膜モデル)

4インチ~12インチウェーハ
A4サイズ

約400万点 (薄膜モデル)
約150万点 (厚膜モデル)
約100万点 (極厚膜モデル)

約50μm~150μm (薄膜モデル)
約80μm~250μm (厚膜モデル)
約100μm~300μm (極厚膜モデル)
※サンプルサイズによります。

2分以内
※材質、条件によります。

3σ<1.0nm (薄膜・厚膜モデル)
3σ<10nm (極厚膜モデル)
※校正された厚さ1μmのSiウェーハ上のSiO2膜にて。

約W810×D820~880×H2,000mm
※12インチウェーハの場合

この商品を見た方はこちらもチェックしています

膜厚計をもっと見る

JFEテクノリサーチの取り扱い製品

JFEテクノリサーチの製品をもっと見る

この商品の取り扱い会社情報

会社概要

お客様の技術課題解決に、JFEテクノリサーチの分析、評価、調査、解析技術を組み合わせたワンストップサービスで支援いたします。

ナノ領域から大型構造物まで幅広い対象において、最新の分析・試験設備を用い、信...

もっと見る

  • 本社所在地: 東京
Copyright © 2024 Metoree