タッチパネル基板 製造装置 SLD-400-SLD-400
タッチパネル基板 製造装置 SLD-400-進和工業株式会社

タッチパネル基板 製造装置 SLD-400
進和工業株式会社



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この製品について

Glass 基板現像装置 抵抗膜式タッチパネル製造工程フローチャート

■上面 フィルム電極 Wet Etching 法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・銀回路印刷

■上面 フィルム電極 Laser Etching 法

・銀回路印刷 ・YAG レーザーパターニング

■裏面 Glass Wet Etching & Spacer 印刷法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・スペーサ印刷 ・銀回路印刷

■裏面 Glass Wet Etching + Photo-Spacer 法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・感光性樹脂塗布 ・パターン露光 ・Spacer現像 ・樹脂硬化 ・銀回路印刷

■静電容量式タッチパネル製造工程フローチャート

・ITO & MAM 成膜 ・塗布前洗浄 ・感光性Resist塗布 ・UV 露光 ・PR 現像 ・MAM Etching&PR Strip ・塗布前洗浄 ・感光性Resist塗布 ・UV 露光 ・PR 現像 ・ITO Etching&PR Strip

  • シリーズ

    タッチパネル基板 製造装置 SLD-400

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タッチパネル基板 製造装置 SLD-400 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板 基板寸法 搬送方式 処理速度 装置構成 処理面 装置寸法 給水 冷却機構 排水 排気 圧縮空気 電源 投入 水洗 液切乾燥 排出 感光性レジスト現像 薬液管理
タッチパネル基板 製造装置 SLD-400-品番-SLD-400

SLD-400

要見積もり ITO Glass + Photo-Resist (Photo-Spacer etc.) □ 300 x 300 ~ 400 x 500 mm t = 0.3 ~ 3.0 mm 水平型 Roller 搬送式 Standard 2.0 m /min. Variable 0.5 ~ 3.5 m / min. 標準 上面 7,400L x 2,200W (*) x 1,200 H mm* 付帯設備を含む 純水~ 20 LPM アルカリ~ 50LPM アルカリ~ 12,000LPM Clean Dry Air ~ 4,000 NLPM (* Using Air-Knife ) 3φ 200V Approx. 13 kVA (75A/75AF) 生産管理機構はOption 循環水洗+純水洗 Air-Knife 生産管理機構はOption 基板整列機構 循環スプレ タンク容量 Max. 300L 処理温度 23 ℃ Chemicals : Alkaline Solution オプション

のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。

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