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タッチパネル基板 製造装置 SLD-400-SLD-400
タッチパネル基板 製造装置 SLD-400-進和工業株式会社

タッチパネル基板 製造装置 SLD-400
進和工業株式会社



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この製品について

Glass 基板現像装置 抵抗膜式タッチパネル製造工程フローチャート

■上面 フィルム電極 Wet Etching 法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・銀回路印刷

■上面 フィルム電極 Laser Etching 法

・銀回路印刷 ・YAG レーザーパターニング

■裏面 Glass Wet Etching & Spacer 印刷法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・スペーサ印刷 ・銀回路印刷

■裏面 Glass Wet Etching + Photo-Spacer 法

・エッチングレジスト印刷 ・ITO 蝕刻 ・レジスト剥離 ・感光性樹脂塗布 ・パターン露光 ・Spacer現像 ・樹脂硬化 ・銀回路印刷

■静電容量式タッチパネル製造工程フローチャート

・ITO & MAM 成膜 ・塗布前洗浄 ・感光性Resist塗布 ・UV 露光 ・PR 現像 ・MAM Etching&PR Strip ・塗布前洗浄 ・感光性Resist塗布 ・UV 露光 ・PR 現像 ・ITO Etching&PR Strip

  • シリーズ

    タッチパネル基板 製造装置 SLD-400

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タッチパネル基板 製造装置 SLD-400 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 基板 基板寸法 搬送方式 処理速度 装置構成 処理面 装置寸法 給水 冷却機構 排水 排気 圧縮空気 電源 投入 水洗 液切乾燥 排出 感光性レジスト現像 薬液管理
タッチパネル基板 製造装置 SLD-400-品番-SLD-400

SLD-400

要見積もり

ITO Glass + Photo-Resist (Photo-Spacer etc.)

□ 300 x 300 ~ 400 x 500 mm t = 0.3 ~ 3.0 mm

水平型 Roller 搬送式

Standard 2.0 m /min. Variable 0.5 ~ 3.5 m / min.

標準

上面

7,400L x 2,200W (*) x 1,200 H mm* 付帯設備を含む

純水~ 20 LPM

アルカリ~ 50LPM

アルカリ~ 12,000LPM

Clean Dry Air ~ 4,000 NLPM (* Using Air-Knife )

3φ 200V Approx. 13 kVA (75A/75AF)

生産管理機構はOption

循環水洗+純水洗

Air-Knife

生産管理機構はOption 基板整列機構

循環スプレ タンク容量 Max. 300L 処理温度 23 ℃ Chemicals : Alkaline Solution

オプション

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