電子ビーム励起プラズマを用いた高密度プラズマ処理装置 EBEP処理装置-EBEP処理装置

電子ビーム励起プラズマを用いた高密度プラズマ処理装置 EBEP処理装置
株式会社片桐エンジニアリング

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この製品について

◼︎概要
EBEPとは電子ビーム励起プラズマ (Electron Beam Excited Plasma) の頭文字を並べたものです。本装置は (独) 理化学研究所の特許の実施権を取得して改良を加え、装置化したものです。

・広い圧力領域において低エネルギー、大電流電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高密度の活性種を生成することが可能。 (圧力:10^-3～1Pa 電子密度:～10^12cm-3) 
⇒CCPプラズマ、ICPプラズマでは達成できないプラズマ状態を生成
⇒様々な材料の精密成膜、エッチング、表面改質が可能
・酸化物、金属、樹脂等の成膜、表面改質に対応。
・ステージ加熱 (Max 500℃) 、バイアス印加による高速高精度処理が容易。

◼︎動作原理
EBEPは低エネルギー電子ビームをプロセスガスに衝突させることでプラズマを生成します。電子ビームによる衝突でプロセスを活性化することから電子ビーム (Electron Beam Exclted Plasma) と呼ばれます。

プロセスガスが外部エネルギーにより活性化する確率を断面積という言葉で表し、この断面積を最大にする最適なエネルギー値がプロセス活性化の各反応ごとに存在します。EBEPの電子ビームは電子の加速電圧と電流量が可変ですので、プロセスに応じた最適な断面積を得る電子ビームを生成できます。

処理適用例
◼︎窒化処理
窒化処理とは、金属熱処理の一つです。活性化した窒素を金属表面に拡散、もしくは化合物を生成して表面硬化させる技術です。EBEPでは高密度窒化プラズマによる迅速窒化処理、またはニッケル基合金やアルミニウム合金など従来難しいとされていた金属にも窒化処理が可能です。

◼︎表面改質
基材表面のみの性質を変化させる処理は表面改質と呼ばれます。EBEPは100℃以下の低温も可能です。樹脂材や硝子に対して親水性向上やイオンによる物理エッチング等の表面改質プロセスが行えます。

その他オプション
■制御盤成膜レシピ成膜レシピとして、事前に装置にパッケージ化

■ステージ機機Roll To Roll方式、自転公転機構等にも適用可

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
電子ビーム励起プラズマを用いた高密度プラズマ処理装置 EBEP処理装置

取扱企業
株式会社片桐エンジニアリング

カテゴリ

加工・工作機器

プラズマ処理装置

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電子ビーム励起プラズマを用いた高密度プラズマ処理装置 EBEP処理装置品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	主寸法 (電源盤、制御盤含まず)	EBEP本体構成	EBEP本体排気系	プロセスチャンバー材質	プロセスチャンバー構造	プロセスチャンバー真空到達度	プロセスチャンバーヒータ	基板ステージバイアス	基板ステージ標準対応サイズ	基板ステージ加熱温度	真空排気系真空排気方式	真空排気系真空計	真空排気系圧力制御	真空排気系付属	ガス供給系系統数	ガス供給系その他
	EBEP処理装置	要見積もり	幅1,800mm×奥行き1,200mm×高さ1,750mm	EBEP本体、電源、排気系、収東コイル、水冷シャッター	TMP (300L/s) +ドライポンプ	SUS304	角型、防着板付属	<5×10 -5 Pa	パネルヒータ	印加可能	Max φ100mm	Max 500℃	TMP (1,000L/s) ＋ドライポンプ	キャパシタンスマノメータ	電離真空計、圧力調整弁	大型ゲートバルブ、高真空アングルバルブ、配管等	プロセスガス、N2 パージ	バルブ・配管等