化合物半導体の組成・膜厚の生産管理用 XRD装置 QC3 / QC-Velox-3DAFMQC3 / QC-Velox

化合物半導体の組成・膜厚の生産管理用 XRD装置 QC3 / QC-Velox
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この製品について

■化合物半導体の品質管理用XRD装置Bruker QC3 / QC-Velox装置は産業用のXRD装置として専用に設計されています。試料ステージは平置きを採用しておりますので、破損しやすいウエハーでも落下の心配がありません。また、300mmウェーハを全面マッピング可能な広いXYステージを備えておりますので、複数枚ウェーハ同時乗せホルダを利用してバッチ処理が可能です。

高速ゴニオメータと高速軸立てアルゴリズムの採用により、研究用XRDとは比較にならないほど高いスループットを誇ります。解析に用いるRADsソフトウエアは最も広く生産現場で用いられているフィッティングソフトウエアであり研究者が介在出来ない生産現場であっても円滑に解析やレポートがが行えるよう、カスタマイズが可能な強力な分析ソフトウエアです。

ウエハ自動搬送ロボット (オプション) が選択可能であり、生産ラインのさらなる省力化が見込めます。エンジニアはより多くの時間を評価以外のより重要な課題に振り向けることができます。

高速XRRチャンネル (オプション) を選択すると特許取得した集光光学系により数秒でXRRの測定及び評価が可能であり絶対膜厚測定が簡単に行えます。高速1次元検出器 (オプション, QC-Velox-E) を搭載すると従来数時間をかけて測定した逆格子マップ測定が高速 (数十秒から数分) に測定可能で、逆格子マップのシミュレーション及びフィッティング解析を提供可能です。