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真空熱処理装置 大型高温真空加熱装置－1,000℃－取扱企業
株式会社日本シード研究所カテゴリ
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 排気性能 到達圧力 | 排気性能 排気時間 | 真空槽 | 排気系 主排気ポンプ | 排気系 補助ポンプ | 排気系 各種バルブ | 真空計 低真空 | 真空計 高真空 | 槽内アクセス アクセスドア | 機能 加熱温度 | 機能 有効加熱範囲 | 機能 昇温速度 | 制御系 主操作 | 制御系 自動動作機能 | オプション べントガス (増設、変更) | オプション プロセスガス | ユーティリティ 電力・接地 | ユーティリティ 冷却水 | ユーティリティ ペントガス | ユーティリティ 圧縮空気 | ユーティリティ 設置面積 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
大型高温真空加熱装置－1,000℃－ |
要見積もり |
≦5.0×10^ｰ6Pa |
≦1.0×10^ｰ2Pa (DRP＋TMP) |
SUSチャンバ |
クライオポンプ |
ドライ真空ポンプ |
PLC操作 (自動および手動) |
ピラニ真空計 |
電離真空計 |
Oリングシール |
常用750℃ |
(W×D×H) |
750℃/150分 |
制御盤 PLC操作 |
排気系動作 |
Ar他 |
O2、H2他 |
主電源系 |
供給圧：0.2~0.3MPa |
窒素ガス |
0.5~0.8MPa |
(W×D×H) ＝10,150mm×4,000mm×2,500mm |
真空炉をフィルターから探すことができます
使用用途
#焼結 #ろう付け #焼鈍 #焼戻し #焼入れ #浸炭 #応力除去 #乾燥 #脱ガス #脱泡最高温度 ℃
600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400常用温度 ℃
500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200到達真空度 Pa
0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150加熱方式
輻射加熱 直接通電 抵抗加熱
