全てのカテゴリ

閲覧履歴

真空熱処理装置 高温真空加熱装置ー1,800℃ー-高温真空加熱装置ー1,800℃ー
真空熱処理装置 高温真空加熱装置ー1,800℃ー-株式会社日本シード研究所

真空熱処理装置 高温真空加熱装置ー1,800℃ー
株式会社日本シード研究所



無料
見積もり費用は無料です、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

この製品について

■概要

・タングステンヒーターを構成した縦型真空熱処理装置です。 ・最高到達温度1,800℃、常用温度1,600℃での処理が可能です。 ・試料はチャンバ下部の付属エレベーターに設置します。 ・ドライな排気系で構成され、清浄な雰囲気で試料を処理することが可能です。 ・有効加熱エリア φ160mm、ヒータ中心より±225mm ・均熱精度 1,600℃±20℃ ・プログラム式PID制御 ・ターボ分子ポンプ+ドライポンプ

■特徴

・排気、熱処理プロセスを自動で行うことができる縦型真空熱処理装置です。 ・チャンバ下部のステージにセットした試料は、エレベータによって真空槽内に格納されます。 ・ヒーターエレメントはタングステン、モリブデンなどから雰囲気に応じて提案します。 ・ドライな排気系で構成され、清浄な雰囲気で処理が行うことができ、またプロセスに応じた各種ガスを導入することが可能です。 ・ターボ分子ポンプ、ドライ真空ポンプによる10-5Pa台の到達真空圧力を標準仕様とし、クリーンな雰囲気が要求される処理に対応します。

  • シリーズ

    真空熱処理装置 高温真空加熱装置ー1,800℃ー

この製品を共有する


最新の閲覧: 6時間前


無料
見積もり費用は無料のため、お気軽にご利用ください

電話番号不要
不必要に電話がかかってくる心配はありません

真空炉注目ランキング (対応の早い企業)

返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング

電話番号不要

何社からも電話が来る心配はありません

一括見積もり

複数社に同じ内容の記入は不要です

返答率96%

96%以上の方が返答を受け取っています


真空熱処理装置 高温真空加熱装置ー1,800℃ー 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 排気性能 到達圧力 排気性能 排気時間 真空槽 排気系 主排気ポンプ 排気系 補助ポンプ 排気系 各種バルブ 真空計 低真空 真空計 高真空 槽内アクセス アクセスドア 機能 加熱温度 機能 有効加熱範囲 機能 昇温速度 制御系 主操作 オプション べントガス (増設、変更) オプション プロセスガス ユーティリティ 電力・接地 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ ペントガス ユーティリティ 圧縮空気 ユーティリティ 設置面積
真空熱処理装置 高温真空加熱装置ー1,800℃ー-品番-高温真空加熱装置ー1,800℃ー

高温真空加熱装置ー1,800℃ー

要見積もり

≦1.0×10^ー5Pa

≦5.0×10^ー4Pa
60min以内

SUSチャンバ
(水冷ジャケット式)

ターボ分子ポンプ (水冷)

ドライ真空ポンプ
or油回転ポンプ

PLC操作 (自動および手動)

ピラニ真空計

電離真空計

Oリングシール

常用1,600℃
MAX1,800℃

(Φ×H)
=Φ160mm×450mm

1,600℃/60分
(無負荷)

制御盤 PLC操作

Ar他

O2、H2他

主電源系
3Φ AC200V 250A 50/60Hz

供給圧:0.2~0.3MPa
水温:20~35℃
水量:≧60L/min

窒素ガス
0.1~0.15MPa

0.5~0.8MPa

(W×D×H) =2,150mm×2,200mm×3,400mm

フィルターから探す

真空炉をフィルターから探すことができます

使用用途

#焼結 #ろう付け #焼鈍 #焼戻し #焼入れ #浸炭 #応力除去 #乾燥 #脱ガス #脱泡

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

加熱方式

輻射加熱 直接通電 抵抗加熱

この商品を見た方はこちらもチェックしています

真空炉をもっと見る

この商品の取り扱い会社情報

Copyright © 2025 Metoree