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超高真空熱処理炉 UHF-1150-UHF-1150
超高真空熱処理炉 UHF-1150-株式会社サンバック

超高真空熱処理炉 UHF-1150
株式会社サンバック

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この製品について

超高真空熱処理炉UHF-1150の加熱源はMoヒーターとリフレクターを採用しており、最高温度1,150℃、昇温時間200℃/hrの加熱能力を有しております。真空排気系はドライポンプとクライオポンプによる排気でクリーンな排気が可能です。到達圧力は1.0×10-6Pa、非常にクリーンな環境下での熱処理を実現いたします。加熱制御は4ゾーン3サイリスタ制御で、有効加熱領域の温度分布も100~1,150℃の範囲内にて±10℃を実現しております。

  • シリーズ

    超高真空熱処理炉 UHF-1150

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超高真空熱処理炉 UHF-1150 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 作業圧力 装置漏洩量 気体放出量 加熱室径 表面処理 加熱方法 有効加熱領域 温度分布 制御方法 真空排気系 真空計 操作方法 制御系 ユーティリティ 動力 (ヒーター用) ユーティリティ 動力 (装置本体用) ユーティリティ 計装エアー ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ 乾燥窒素 設置スペース 装置本体 オプション
超高真空熱処理炉 UHF-1150-品番-UHF-1150

UHF-1150

要見積もり

1.0×10-6Pa (at常温時) ※ワーク未挿入・脱ガス完了時

1.0×10-5Pa以下 (at600℃時) ※ワーク未挿入・脱ガス完了時
1.0×10-4Pa以下 (at1,000℃時) ※ワーク未挿入・脱ガス完了時

×10-10Pa・m3/sec台 (Heリークデテクター試験による)

×10-6Pa・m3/sec台 (24hrビルドアップ試験による)

φ950mm×2,000mmL 材質:SUS304

バフ研磨+電解研磨処理

Moヒーター (リフレクターMo 6層+SUSジェール1層)

□370mm×1,500mmL

有効加熱領域帯にて100~1,150℃任意の温度にて
±10℃※定温運転中

4ゾーン (正面・中央前・中央後・裏面) を
3サイリスタ (正面・中央・裏面) にて制御
PID式デジタルプログラムコントローラ3式
(マスター・スレーブ通信)

ドライポンプ (粗引用) :5,000L/min
ドライポンプ (クライオ再生用) :250L/min[50Hz]
クライオポンプ:10,000 (N2) ~29,000 (H2O) L/sec

コールドカソードピラニ真空計

加熱系 (自動/手動) ・排気系 (自動/手動) ・クライオ再生 (自動)

タッチパネル (10インチ) /シーケンサー/ハイブリッド記録計 (10インチ)

φ3×AC400V×90kW 50/60Hz 1系統

φ3×AC200V×10kW 50/60Hz 1系統

圧力:0.5MPa~0.7MPaG 1系統

圧力:0.1~0.3MPaG 流量:170L/min以上 1系統
差圧:0.1MPaG 水温:25℃以下
冷却能力:66kW以上 水質:日本冷凍空調工業会の水質管理基準

圧力:0.05MPaG~0.2MPaG 1系統

4,000mmW×5,400mmD×3,000mmH以内

計装エアー用コンプレッサー/装置冷却用冷却水循環装置/クリーンブース/ワーク搬送用リフター

フィルターから探す

真空炉をフィルターから探すことができます

使用用途

#焼結 #ろう付け #焼鈍 #焼戻し #焼入れ #浸炭 #応力除去 #乾燥 #脱ガス #脱泡

加熱方式

抵抗加熱型 高周波加熱型 輻射加熱 直接通電 抵抗加熱

構造形式

横型炉 縦型炉 チャンバ型 バッチ型

真空到達度

低真空型 中真空型 高真空型

特殊機能

ガス置換型 急速昇降温型

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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