イオンビーム技術は単一ツールで最大限のシステム活用が可能 Ionfab 300 IBD
オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社
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この製品について
■概要
高品質で高密度かつ滑らかな表面を持つ、薄膜デポジションを実現することで、選んでいただいています。 イオンビーム技術は、単一ツールで最大限のシステム活用が可能で、エッチングやデポジションに対して、非常に多様な手法を提供できます。当社のシステムには、大気装入、単一基板真空予備室、そしてカセット交換方式を含む、柔軟なハードウェアのオプションがあります。システムの仕様は、用途に合わせて綿密に調整され、迅速かつ再現性のある結果を実現します。■特徴
・複数のモード機能 ・他のプラズマエッチングやプラズマデポジションのツールとのクラスター化が可能 ・単一ウェハー真空予備室またはクラスター方式ウェハー取り扱い ・デュアルビーム配置 ・膜表面粗さが非常に小さい ・他に類のない、バッチ均質性およびプロセス再現性 ・正確なエンドポイント検知－SIMS、発光分析-
シリーズ
イオンビーム技術は単一ツールで最大限のシステム活用が可能 Ionfab 300 IBD
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カテゴリ
イオンビーム技術は単一ツールで最大限のシステム活用が可能 Ionfab 300 IBD 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) |
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Ionfab 300 IBD |
要見積もり |
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