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コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330-ICF-330
コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330-ナノテック株式会社

コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330
ナノテック株式会社

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この製品について

弊社のDLC成膜技術をベースに、あらゆる研究開発を目的とする御客様からの要求にお応え出来るように開発された、DLC成膜実験機の最新モデル。コンパクト設計ではありながら、PSII電源標準装備や高周波スパッタ源等を追加可能で、大型生産機と同様の複合成膜も一台で実験が可能。

  • シリーズ

    コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330

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コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 真空槽 (mm) 有効エリア (mm) 基板ホルダー 搭載可能システム 到達圧力 排気速度 基板加熱機構 基板バイアス 装置制御 排気系 所要電力 設置面積 (M) 冷却水 圧縮空気
コーティング装置 小型DLC成膜実験装置 330シリーズ ICF-330-品番-ICF-330

ICF-330

要見積もり

330W × 330D × 410H

φ150 × 150L (スパッタリング搭載時は※110L)

自公転式 (製品形状に応じて特注製作可能)

PSII電源 (標準) 、DLCイオン源 (イオン化蒸着源) 、スパッタリング電源、DLC剥離用電源

6.7E-4Pa以下

6.7E-3Pa以下まで30分以内

オプション (シースヒーター)

MAX 5kV 250mA 0.2 ~ 2kHz DUTY5 ~ 50%

レシピ画面設定による完全自動運転

ターボ分子ポンプ + ロータリーポンプ

3φ 200V 10kVA~

2.5W × 2.5D × 2.0H

2kgf/cm2 20L/min

5kgf/cm2以上

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成膜装置をフィルターから探すことができます

使用用途

#半導体製造 #光学部品製造 #太陽電池製造 #ディスプレイ製造 #電池材料開発 #センサ開発 #薄膜トランジスタ開発 #表面改質 #機能性材料研究 #MEMS製造 #医療機器製造 #材料評価

到達圧力 Pa

0 - 0.01 0.01 - 1 1 - 10

基板サイズ mm

25 - 50 50 - 100 100 - 150 150 - 200 200 - 300 300 - 400 400 - 500 500 - 650

設置面積 m²

1 - 5 5 - 10 10 - 20

所要電力 kVA

10 - 15 15 - 20 20 - 25 25 - 30 30 - 35

真空槽 mm

500 - 800 800 - 1,000

基板バイアス V

0 - 5,000 5,000 - 25,000

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

ナノテック株式会社は、真空を利用した金属及びセラミック表面改質装置の製造販売などを行う企業です。 真空利用だけではなく、プラズマ利用による金属加工装置の販売を行っています。また、材料の特性を評価する試験装置の輸入や...

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  • 本社所在地: 千葉県
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