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全反射蛍光X線分析装置 TXRFスペクトロメーター XHEMIS TX-3000-XHEMIS TX-3000
全反射蛍光X線分析装置 TXRFスペクトロメーター XHEMIS TX-3000-株式会社リガク

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この製品について

■TXRFスペクトロメーター

・超高速金属汚染マッピング ・300mmウェーハまで対応

  • シリーズ

    全反射蛍光X線分析装置 TXRFスペクトロメーター XHEMIS TX-3000

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全反射蛍光X線分析装置 TXRFスペクトロメーター XHEMIS TX-3000 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 手法 用途 主要コンポーネント 特徴 本体寸法 測定結果 テクノロジー オプション
全反射蛍光X線分析装置 TXRFスペクトロメーター XHEMIS TX-3000-品番-XHEMIS TX-3000

XHEMIS TX-3000

要見積もり

全反射蛍光X線 (TXRF)

微量元素の表面汚染 (Na - U) の高速かつ非破壊での測定
マッピング速度の約3倍の改善
E9原子/cm²の検出限界

3検出器構成
高出力W対陰極X線源 (9 kW回転対陰極)
軽元素、遷移元素、重元素に最適化された3つの励起エネルギー
XYθ試料ステージ
2つのFOUPロードポート

フルウェーハマッピング (SWEEPING-TXRF) 、ゼロエッジ除外 (ZEE-TXRF)

1,280 (幅) x 3,750 (奥行き) x 2,040 (高さ)
(モニターと信号塔を除く)

定量結果、スペクトルチャート、カラーコンターマップ、マッピングテーブル

高感度金属汚染分析

バックサイド解析 (BAC-TXRF) 、GEM300ソフトウェア、E84/OHTサポート

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使用用途

#元素分析 #構造解析 #研究開発 #マッピング #異物検出 #微小部測定 #粉末試料 #薄膜

検出器

FPD HPC検出器 シリコンドリフト検出器

測定可能なq範囲 nm-1

0 - 30 30 - 50

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会社概要

株式会社リガクは、科学機器メーカーです。 1951年に設立された株式会社リガク山梨は、東京都昭島市に本社・東京工場・Ｘ線研究所を構え、大阪府高槻市に大阪工場、山梨県北杜市に山梨工場を所有しています。また米国をはじめ...

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