反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール XTRAIA MF-2000-XTRAIA MF-2000

反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール XTRAIA MF-2000
株式会社リガク

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この製品について

■XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール組成および膜厚 (EDXRF) 、膜厚、密度、および粗さ (XRR) について、未パターン化およびパターン化された薄膜のための最大200mmウェーハに対して、光学技術や超音波技術では実現不可能な高精度測定を行います。この高度なX線計測ツールは、超薄単層薄膜から多層積層膜までの製品およびブランケットウェーハに対する高スループット測定を実用的に行うことができます。

概要
■大量生産向けに設計高スループットのXRRおよびXRFによる膜厚測定、低汚染ウェーハハンドリング、製品ウェーハ測定のためのパターン認識ベースの位置制御、半導体製造用クリーンルーム運用のCEマーキングおよびSEMIS2/S8コンプライアンス、SECS/GEM、高い信頼性のある機械性能、低消費電力コストおよび低所有コストを実現します。オープンカセットおよびSMIFポッド構成で利用可能です。

■膜厚および密度モニターXTRAIAMF-2000には、XRRおよびXRD測定用の二次元検出器であるHyPix3000が装備されています。この検出器は、100µmx100µmのピクセルサイズを持つ約30万個のピクセルを有しています。X線光子が入射すると、各ピクセルセンサーは入射光子の数を1つずつカウントすることができます。

■XRR測定は5倍速く高解像度および高ダイナミックレンジ (10⁸) により、XRRは超薄膜 (サブナノメートル) から厚膜 (450nm) までの幅広い膜厚を評価できます。二次元検出器とX線反射率 (XRR) 測定を使用することで、従来のモデルと比較してXTRAIAMF-2000の測定速度が5倍向上しました。

■低結晶性の微結晶薄膜さらに、XRRおよびX線回折 (XRD) の高い性能により、需要が高まっている非常に薄い低結晶性薄膜の測定が可能です。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール XTRAIA MF-2000

取扱企業
株式会社リガク

カテゴリ

アナライザ

X線分析装置

検査装置

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測定機器

蛍光X線分析装置

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反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール XRR、EDXRF、およびXRD計測ツール XTRAIA MF-2000 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	手法	利点	特性	特長	寸法	測定結果	テクノロジー	オプション
	XTRAIA MF-2000	要見積もり	X線反射率 (XRR) 、エネルギー分散型蛍光X線分析 (EDXRF) 、X線回折 (XRD)	超薄膜からミクロンオーダーの膜までの製品ウェーハの高スループット測定；幅広い厚さと膜タイプに適用可能	ブランケットおよびパターン化ウェーハの計測モノクロマチックなマイクロスポットX線ビームモジュール (COLORS)	最大108のダイナミックレンジを持つ超高速検出器デュアルオープンカセットロードポート	1,612 (幅) ×3,395 (奥行き) ×2,118 (高さ) mm	EDXRF：膜の厚さと組成 XRR：膜の厚さ、密度、および粗さ	2つのオープンカセットロードポートを備えたプロセスマイクロスポットXRR、EDXRF、およびXRD	SECS/GEMソフトウェア SMIFロードポート