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反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000-XHEMIS EX-2000
反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000-株式会社リガク

反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000
株式会社リガク

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■X線膜厚・密度測定装置XHEMISEX-2000

蛍光X線 (XRF) およびX線反射率 (XRR) による非接触、非破壊な膜厚・密度測定装置

■XRR新光学系、新開発信号処理の採用により高スループット高ダイナミックレンジを両立

高速検出器を搭載した新開発の光学系を採用することで、高スループットXRR測定 (15-25WPH) を実現しました。また、特殊な信号処理を施すことで、ノイズの少ない明瞭で高ダイナミックレンジなスペクトルを取得できます。 概要

■新手法の角度調整によりアライメント時間を短縮

X線の反射を利用した角度調整により、高速で正確なサンプル傾き補正を実現しました。

■ウェーハ面内分布評価

膜厚面内分布をX線分析する場合、ウェーハ高さ調整が重要です。幅広い膜種に対応した高速Z軸アライメント機能を搭載し、高精度なウェーハ全面マッピング測定を実現しました。

■アプリケーション

・FEOL：CoSix、NiSix、SiGe、High-κ膜、Al… ・BEOL：バリアメタル、Ta/TaN、Ti/TiN、Cuシード、Cuメッキ、W…など、様々なプロセスで使用される、広範な膜種、膜厚に対応します。

■全自動装置日常管理機能AutoCal

XRR、XRF測定において正確で安定した分析値を得るためには、光学系やX線源、検出器の日常的な点検、管理が必要となります。本装置ではこれらの日常管理を全自動で実行する機能「AutoCal」を搭載。オペレータの作業負担を軽減します。

■ユーザーフレンドリーな操作画面

他機種でも採用されている実績あるソフトウェアをベースとした多様な機能を実現、また複雑な解析を必要としない新XRR膜厚・密度解析ソフトウェアを搭載し、測定から解析まで簡単操作で実行可能です。

■CtoC自動搬送に対応

200mm～100mmウェーハのオープンカセット自動搬送に対応。 (オプション)

  • シリーズ

    反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000

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反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000 品番1件

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反射率、エネルギー分散型蛍光X線分析、光学ツール X線膜厚・密度測定装置 XHEMIS EX-2000-品番-XHEMIS EX-2000

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使用用途

#元素分析 #構造解析 #研究開発 #マッピング #異物検出 #微小部測定 #粉末試料 #薄膜

検出器

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株式会社リガクは、科学機器メーカーです。 1951年に設立された株式会社リガク山梨は、東京都昭島市に本社・東京工場・Ｘ線研究所を構え、大阪府高槻市に大阪工場、山梨県北杜市に山梨工場を所有しています。また米国をはじめ...

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