膜厚測定装置 UTS-2000
日本分光株式会社

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この製品について

膜厚測定装置UTS-2000は、最新の分光分析技術を応用し、非破壊･非接触で、高速かつ高精度にエピ膜、基板厚、エッチング残差などの膜厚を計測することができます。また標準搭載のオートステージを利用することでデバイス面内の膜厚分布を評価することも可能です。この他に拡散層のように基板と膜の界面が不明瞭な膜厚を測定するための波長拡張、Si中の不純物軽元素の定量を行うための透過測定システム、キャリア濃度を定量するためのデータ解析ソフトなど、膜厚計測以外の測定にもオプションで対応できます。さらに自動搬送装置との組み合わせも可能であり、プロセスユースから開発･評価に至るまで幅広いニーズに対応します。

特長
■広い計測レンジ0.25～750µmに渡る広い計測レンジで膜厚 (基板厚) を計測することができます。

■高精度な測定高精度干渉計と高スループット光学系により、高精度の膜厚データを計測することができます。

■効率的な測定自動搬送装置に対応しています。

■プロセスユースに必要なFOUPオープナーやマルチロードポートにも対応FOUP (ウェーハを格納したSEMIによって規格化された) やマルチロードポート (FOUP内のウエーハを出し入れする際のインターフェース) にも対応できます。

■SEMI規格対応SEMI規格 (Semiconductor Equipment and Materials International standards) に対応することができます。

■画像認識ウエーハパターンを読み取り、測定位置を決定する画像認識にも対応することができます (ご相談ください) 。

ハードウェアの特長
■自動搬送装置による計測の全自動化オプションでカセットtoカセットの自動搬送に対応しており、カセット毎の計測を全自動化することができます。

ソフトウェアの特長
■洗練された操作性効率的な測定が行えるよう操作性の高いプログラムが搭載されています。

■効率的な測定膜厚計測条件をレシピとして登録することにより、一覧での閲覧や条件の使いまわしが可能です。各レシピはレシピテーブルで管理することができます。

■バリデーション日常点検用にバリデーションプログラムを標準搭載しています。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
膜厚測定装置 UTS-2000

取扱企業
日本分光株式会社

カテゴリ

測定機器

分光器

アナライザ

分光分析装置

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膜厚測定装置 UTS-2000 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	計測方式	測定配置	測定サイズ	モニタリング	測定膜厚範囲	測定膜厚再現性	ストローク	駆動分解	装置制御
	UTS-2000	要見積もり	フーリエ変換干渉膜厚計測法	反射、透過 (オプション)	20 × 20 ~ 500 × 500µm (顕微モデル) φ2, 3, 4, 6mm (マクロモデル)	内蔵CMOSカメラにより測定部位を確認 (顕微モデルのみ)	0.25µm~750µm (近赤外でSiを測定した場合) 0.7µm~750µm (中赤外でSiを測定した場合)	0.005µm以下 (同一点繰返し測定時、Siの場合)	200mm×200mm*1	2µm	JASCOスペクトルマネージャによる光学系制御/XYステージ制御/搬送機制御 (オプション)