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ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 EXCEED400HY-EXCEED400HY
ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 EXCEED400HY-日新電機株式会社

ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 EXCEED400HY
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この製品について

■概要

業界唯一のレーザー、パワーデバイス向け水素注入装置 特長

■業界唯一のレーザー、パワーデバイス向け水素注入装置

・高生産性を実現する大電流H⁺、H₂⁺ ビーム ・H⁺ 400keV 注入を実現。既存の高エネルギー注入機と比べて、400keV以下のビーム電流が高いため、際立って高いコストパフォーマンス ・VCSEL生産の充分なフィールド経験 ・Siの薄ウェーハに対応した搬送システムを搭載することで薄ウェーハの処理が可能 ・パワーデバイスライフタイム制御用のH+裏面注入にも活躍 ・ウェーハサイズ：4/6/8インチ

■ベストセラー中電流機EXCEEDシリーズをベースに開発

・高信頼性 ・共通のメンテナンスパーツ

  • シリーズ

    ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 EXCEED400HY

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ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 EXCEED400HY 品番1件

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日新電機株式会社は、電力・環境システム事業やビーム・プラズマ事業、装置部品ソリューション事業を行う企業です。 電力・環境システム事業としては、顧客ニーズにあわせて電力エネルギーを活用するソリューションの提供、ガス絶縁開...

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