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ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II-IMPHEAT-II
ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II-日新電機株式会社

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この製品について

■概要

高温搬送の信頼性とスループットをIMPHEATからさらに進化させた高温イオン注入装置 特長

■業界最高の生産性を持つ高温イオン注入装置で、SiCパワーデバイス向けアルミニウム (AI) 注入が可能

・室温から500℃までをカバー ・業界最高の高温スループット ・生産性に寄与する大電流Al+ビーム ・ウェーハサイズ：4/6/8インチ

■豊富な納入実績のあるEXCEEDをベースに開発

・高信頼性 ・保守部材の共通化

  • シリーズ

    ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II

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ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II 品番1件

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IMPHEAT-II

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使用用途

#半導体製造 #ディスプレイ製造 #パワーデバイス製造 #材料改質

加速エネルギー

低エネルギー型 中エネルギー型 高エネルギー型

ビーム構造

マルチビーム型 スキャン型

特徴

高電流型 高精度型 高真空型 コンパクト型

エネルギー keV

0 - 5 5 - 100 100 - 300 300 - 1,000

最大ビーム電流 μA

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000

硬度Hv Hv

0 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,500

摩擦係数

0 - 0.1 0.1 - 0.2 0.2 - 0.5

耐熱温度 ℃

300 - 400 400 - 500

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会社概要

日新電機株式会社は、電力・環境システム事業やビーム・プラズマ事業、装置部品ソリューション事業を行う企業です。 電力・環境システム事業としては、顧客ニーズにあわせて電力エネルギーを活用するソリューションの提供、ガス絶縁開...

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  • 本社所在地: 京都府

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