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ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II-IMPHEAT-II
ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II-日新電機株式会社

ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II
日新電機株式会社



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この製品について

■概要

高温搬送の信頼性とスループットをIMPHEATからさらに進化させた高温イオン注入装置 特長

■業界最高の生産性を持つ高温イオン注入装置で、SiCパワーデバイス向けアルミニウム (AI) 注入が可能

・室温から500℃までをカバー ・業界最高の高温スループット ・生産性に寄与する大電流Al+ビーム ・ウェーハサイズ:4/6/8インチ

■豊富な納入実績のあるEXCEEDをベースに開発

・高信頼性 ・保守部材の共通化

  • シリーズ

    ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II

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ビーム・プラズマ 半導体製造用イオン注入装置 IMPHEAT-II 品番1件

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IMPHEAT-II

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

日新電機株式会社は、電力・環境システム事業やビーム・プラズマ事業、装置部品ソリューション事業を行う企業です。 電力・環境システム事業としては、顧客ニーズにあわせて電力エネルギーを活用するソリューションの提供、ガス絶縁開...

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