SiC用超高温プロセス炉
株式会社エピクエスト

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この製品について

■特徴・6インチまで対応
・高温成長可能 (MAX2,200℃) 
・急速昇温可能 (1,000℃→2,000℃まで1分以内) 
・カーボンフリー
・超高真空仕様 (極低リークレート) 
・完全自動化 (プロセス、搬送) 

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
SiC用超高温プロセス炉

取扱企業
株式会社エピクエスト

カテゴリ

加工・工作機器

真空炉

熱源

加熱炉

加工・工作機器

加熱装置

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SiC用超高温プロセス炉品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	均熱領域	最高加熱温度	到達圧力	チャンバ構成
	SiC用超高温プロセス炉	要見積もり	160mmΦ×65mmH	MAX2,200℃	6.6×10^-7Pa	2チャンバ構成 (加熱室、導入室)

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真空炉をフィルターから探すことができます

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

加熱方式

輻射加熱直接通電抵抗加熱

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この商品の取り扱い会社情報

株式会社エピクエスト

会社概要

株式会社エピクエストは2000年に設立し、主にMBE装置、MOCVD装置の開発、製造を行っている会社です。 MBEやMOCVD装置は、天然にない人工結晶を作製する技術であるエピキタシー技術を基盤としており、結晶を成...

本社所在地: 京都府

SiC用超高温プロセス炉
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