マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用 Model 212-R&D用 Model 212

マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用 Model 212
株式会社協同インターナショナル

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この製品について

最大12”までの中型基板に適したベンチトップタイプのR&D用マスクアライナーです。

■マスクアライナーマスクアライナーとは紫外線を用いて試料に微細なパターンを転写・焼付する装置で、マスクアライメント装置とも呼ばれます。基板素材はシリコン、ガラス、セラミック、ガリウムヒ素、推量など多岐にわたっています。一般的にトランジスタ、ICなどの半導体素子製造に使用される場合がほとんどですが、LCDガラスのパターン形成や水晶発振子の製造などにも用いられます。

OAI社のマスクアライナーは世界中でR&Dおよび量産向けに使用されています。信頼性、耐久性、技術優位性の面で他社製品より優れているとお客様からの評価を頂いています。特にコストパフォーマンスに優れたマスクアライナーとして定評があります。

オプションでコントローラ、チャックを追加するだけで「マイクロ流体チップの製造」「UVナノインプリント」が可能な装置へアップグレードさせることができます。半導体、ディスプレイ、MEMS、マイクロ流体、ナノインプリント、医療/バイオ、太陽電池 (ソーラー) 用途に最適です。

■OAI社製品の特徴・コンパクトなテーブルトップ装置で、R&D用途からセミ/フルオートマティックの量産対応機まで豊富なラインナップ。
・ライトソースのみの販売も行っております。
・永年の製造経験に基づき、充分にテスト・検証されたモジュラー部品を組み上げる事により、経済的かつ信頼性・拡張性に優れたシステムを提供。
・半導体リソグラフィー、マイクロ流体、ナノインプリント、MEMS、UV硬化 (キュア) 、バイオテクノロジー、太陽電池 (ソーラー) 、抵抗特性評価など。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用 Model 212

取扱企業
株式会社協同インターナショナル

カテゴリ

半導体製造

露光装置

半導体製造

ステッパ

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マニュアル式片面テーブルトップ大面積マスクアライナー R&D用 Model 212 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	基板対応サイズ	マスク対応サイズ	アライメントステージコントロール	露光時間	露光モード解像度	付帯設備	サイズ
	R&D用 Model 212	要見積もり	12インチ角まで	14インチ角まで	XY 動作 : ±10mm Z 動作 : 5mm 回転 : ± 3.5°	0.1s~99.0s (0.1s間隔) もしくは　1s~999s (1s間隔)	プロキシミティ : 5µm (20µm ギャップ) ソフトコンタクト: 2µm ハードコンタクト: 1µm バキュームコンタクト : sub-µm	電源 : 110V もしくは 220V ( 仕様による) 真空ライン、エアーラインもしくは N2ライン、排気ライン	1,067mmH×1,524mmW×1,346mmD