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ポジ型フォトレジスト ma-P1205
株式会社オーエステック



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この製品について

■ポジ型フォトレジストの独特の特徴

・g-line、i-lineまたは広帯域露光に対する感度 ・露光後ベークなし ・容易な除去 ・各種粘性にすぐ使用できるレジストソルーション ・広いプロセスウィンドウと容易な取扱い

■主用途

・エッチング用マスク (例:Si、SiO2、他の半導体、金属) ・イオン注入用マスク ・電気メッキ用モールド

  • シリーズ

    ポジ型フォトレジスト ma-P1205

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ポジ型フォトレジスト ma-P1205 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 膜厚µm スピンコーティングrpm スピンコーティングs 線量@ 365 nm (広帯域露光) mJ cm^-2

ma-P1205

要見積もり 0.5 3,000 30 35

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社オーエステックは、商社です。 1992年に設立、大阪に本社をおく電子部品の製造に使用する材料を取り扱う専門商社です。主な事業内容としては、半導体に関する材料やスマートフォンやPC、冷蔵庫やエアコンなどに使用され...

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  • 本社所在地: 大阪府
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