ポジ型フォトレジスト ma-P1205
株式会社オーエステック
この製品について
■ポジ型フォトレジストの独特の特徴
・g-line、i-lineまたは広帯域露光に対する感度 ・露光後ベークなし ・容易な除去 ・各種粘性にすぐ使用できるレジストソルーション ・広いプロセスウィンドウと容易な取扱い■主用途
・エッチング用マスク (例：Si、SiO2、他の半導体、金属) ・イオン注入用マスク ・電気メッキ用モールド-
シリーズ
ポジ型フォトレジスト ma-P1205
-
取扱企業
株式会社オーエステック
-
カテゴリ
半導体材料注目ランキング
もっと見る
半導体材料の製品143点中、注目ランキング上位6点
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
まとめて見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%以上
96%以上の方が返答を受け取っています
半導体材料注目ランキング (対応の早い企業)
平均返答時間が24時間以内の企業の中での注目ランキング
電話番号不要
何社からも電話が来る心配はありません
まとめて見積もり
複数社に同じ内容の記入は不要です
返答率96%以上
96%以上の方が返答を受け取っています
ポジ型フォトレジスト ma-P1205 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 膜厚µm | スピンコーティングrpm | スピンコーティングs | 線量@ 365 nm (広帯域露光) mJ cm^-2 |
|---|---|---|---|---|---|---|
ma-P1205 |
要見積もり | 0.5 | 3,000 | 30 | 35 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
