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真空熱処理装置 真空ベーキング装置-株式会社日本シード研究所

全型番で同じ値の指標

排気性能 到達圧力

≦5.0×10^ー5Pa

排気性能 排気時間

≦1.0×10^ー4Pa 30min以内

真空槽

SUSチャンバ

排気系 主排気ポンプ

ターボ分子ポンプ (水冷)

排気系 補助ポンプ

ドライ真空ポンプ or油回転ポンプ

排気系 各種バルブ

PLC操作 (自動および手動)

真空計 低真空 高真空

ワイドレンジ真空計

槽内アクセス アクセスドア

Oリングシール

機能 加熱温度

常用100~300℃ MAX350℃

機能 炉内寸法

(W×D×H) =500mm×500mm×500mm

機能 試料質量 (SUS材試料参考)

下段:Max30kg 棚:Max10kg

制御系 主操作

制御盤 PLC操作

制御系 自動動作機能

排気系動作 プロセス運転

オプション 水冷機構

冷却水循環装置

オプション べントガス (増設、変更)

Ar他

ユーティリティ 電力・接地

主電源系 3Φ AC200V 40A 50/60Hz

ユーティリティ 冷却水

供給圧:0.2~0.3MPa 水温:20~35℃ 水量:≧5L/min

ユーティリティ ペントガス

窒素ガス 0.1~0.15MPa

ユーティリティ 圧縮空気

0.5~0.8MPa

ユーティリティ 設置面積

(W×D×H) =1,200mm×1,200mm×2,200mm

この製品について

■概要

・シースヒーターを構成した真空熱処理装置です。 ・100~300℃での処理が可能です。 ・ボルトやフランジなどの小部品、Oリングの脱ガスなどに適しています。 ・ドライな排気系で構成され、清浄な雰囲気で試料を処理することが可能です。 ・有効加熱エリア (W×H×L) =50mm×500mm×500mm ・プログラム式PID制御 ・ターボ分子ポンプ+ドライポンプ

■特徴

・高真空排気系、制御系を一体化し、ホットプレート式加熱ヒータを構成したコンパクトな熱処理装置です。 ・ターボ分子ポンプ、ドライ真空ポンプによる10-5Pa台の到達真空圧力を標準仕様とし、クリーンな雰囲気が要求される半導体部品・電子電気部品・電子材料などの処理に対応します。 ・槽内には棚板を設置することができ、小部品の処理量増加、均一な処理を効率的に行うことができます。

  • 型番

    真空ベーキング装置

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真空熱処理装置 真空ベーキング装置 真空ベーキング装置の性能表

商品画像 価格 (税抜) 排気性能 到達圧力 排気性能 排気時間 真空槽 排気系 主排気ポンプ 排気系 補助ポンプ 排気系 各種バルブ 真空計 低真空 高真空 槽内アクセス アクセスドア 機能 加熱温度 機能 炉内寸法 機能 試料質量 (SUS材試料参考) 制御系 主操作 制御系 自動動作機能 オプション 水冷機構 オプション べントガス (増設、変更) ユーティリティ 電力・接地 ユーティリティ 冷却水 ユーティリティ ペントガス ユーティリティ 圧縮空気 ユーティリティ 設置面積
真空熱処理装置 真空ベーキング装置-品番-真空ベーキング装置 要見積もり ≦5.0×10^ー5Pa ≦1.0×10^ー4Pa
30min以内
SUSチャンバ ターボ分子ポンプ (水冷) ドライ真空ポンプ
or油回転ポンプ
PLC操作 (自動および手動) ワイドレンジ真空計 Oリングシール 常用100~300℃
MAX350℃
(W×D×H)
=500mm×500mm×500mm
下段:Max30kg
棚:Max10kg
制御盤 PLC操作 排気系動作
プロセス運転
冷却水循環装置 Ar他 主電源系
3Φ AC200V 40A 50/60Hz
供給圧:0.2~0.3MPa
水温:20~35℃
水量:≧5L/min
窒素ガス
0.1~0.15MPa
0.5~0.8MPa (W×D×H) =1,200mm×1,200mm×2,200mm

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使用用途

#焼結 #ろう付け #焼鈍 #焼戻し #焼入れ #浸炭 #応力除去 #乾燥 #脱ガス #脱泡

加熱方式

抵抗加熱型 高周波加熱型 輻射加熱 直接通電 抵抗加熱

構造形式

横型炉 縦型炉 チャンバ型 バッチ型

真空到達度

低真空型 中真空型 高真空型

特殊機能

ガス置換型 急速昇降温型

最高温度 ℃

600 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,400

常用温度 ℃

500 - 600 600 - 800 800 - 1,000 1,000 - 1,200 1,200 - 1,400 1,400 - 1,600 1,600 - 2,000 2,000 - 2,200

到達真空度 Pa

0 - 0.1 0.1 - 10 10 - 100 100 - 150

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会社概要

研究開発向けオーダーメイドの真空装置・機器の製作を得意としています。
オリジナル製品をはじめ、各種規格部品、メーカー製品を取り扱っております。
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  • 本社所在地: 神奈川県

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